[发明专利]基板清洗设备在审
申请号: | 201710305258.6 | 申请日: | 2017-05-03 |
公开(公告)号: | CN107159602A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 李嘉 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;H01L21/67 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 设备 | ||
技术领域
本发明涉及显示制程领域,尤其涉及一种基板清洗设备。
背景技术
随着显示技术的发展,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。
通常液晶显示面板由彩膜基板(Color Filter,CF)、薄膜晶体管基板(Thin Film Transistor,TFT)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC,Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成,其成型工艺一般包括:前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中,前段Array制程主要是形成TFT基板,以便于控制液晶分子的运动;中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶;后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合,进而驱动液晶分子转动,显示图像。
在液晶显示面板制造过程中,湿制程机台应用十分广泛,涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工艺,在清洗制程中,由于基板上部分颗粒(Particle)尺寸过大或者在基板上粘附过紧,需要使用滚刷(Roll Brush)对基板进行清洗。如图1所示,现有的一种基板清洗设备包括:承载杆100、设于承载杆100外表面上的毛刷300、与承载杆100一端连接的驱动装置200、设于承载杆100上且将承载杆100固定于湿制程机台上的轴承400,对基板进行清洗时,向基板表面提供清洗液体,并通过驱动装置200带动承载杆100及其上的毛刷300转动清洗基板表面,但是在实际生产过程中,由于清洗液体在毛刷300上的冲洗并不均匀,将会导致一些颗粒长期藏于毛刷300里面,进而毛刷300在对基板进行清洗时将颗粒带到基板上,甚至刮伤基板。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板清洗设备,能够均匀地润湿毛刷且有效地清洗毛刷中的颗粒,避免在清洗基板时将毛刷中的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题。
为实现上述目的,本发明提供一种基板清洗设备,包括:中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管;所述承载杆上设有多个出水口;
所述进液管用于向承载杆内部通入清洗液体;
所述出水口用于将承载杆内的清洗液体从承载杆内部喷出至承载杆外部,从而润湿毛刷并对毛刷进行清洗。
所述基板清洗设备还包括设于承载杆上的轴承。
所述承载杆的材料为金属或塑料。
所述承载杆的材料为304不锈钢、316不锈钢、聚丙烯、超高分子聚乙烯、或聚氯乙烯。
所述驱动装置为电动机。
所述毛刷通过粘贴的方式设于承载杆的外表面。
所述清洗液体为去离子水、超纯水、洗涤剂、或三羟甲基氨基甲烷。
可选地,所述出水口为线状出水口。
所述线状出水口的形状为环状、波浪状、锯齿状、或斜线状。
所述线状出水口的宽度为0.01mm-15mm。
可选地,所述出水口为孔状出水口。
所述孔状出水口的孔径为0.01mm-15mm。
本发明的有益效果:本发明的基板清洗设备,包括中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管,所述承载杆上设有多个出水口,通过进液管向承载杆内部通入清洗液体,承载杆内部的清洗液体从多个出水口喷出至承载杆外部,从而均匀地润湿毛刷且对毛刷进行有效的清洗,去除毛刷内部残存的颗粒,避免在清洗基板时将毛刷内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题,提高产品良率及产品品质。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图中,
图1为现有的基板清洗设备的结构示意图;
图2为本发明的基板清洗设备的结构示意图;
图3为本发明的基板清洗设备的承载杆的第一实施例的结构示意图;
图4为本发明的基板清洗设备的承载杆的第二实施例的结构示意图;
图5为本发明的基板清洗设备对基板进行清洗的示意图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710305258.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:天麻清洗装置
- 下一篇:一种用于搅拌锅的清洗装置