[发明专利]半导体晶片及半导体封装在审

专利信息
申请号: 201710307231.0 申请日: 2017-05-04
公开(公告)号: CN108022966A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 李英志;郭进成;王永辉;赖威宏;王中鼎;李晓燕 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L23/498;H01L23/538
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 晶片 封装
【说明书】:

一种半导体晶片包含衬底结构、第一绝缘层、导电层和第二绝缘层。所述衬底结构界定通孔。所述第一绝缘层覆盖所述衬底结构的表面。所述第一绝缘层延伸到所述通孔中,覆盖所述通孔的侧壁,且在所述通孔的底部暴露底部表面。所述导电层覆盖所述第一绝缘层以及所述第一绝缘层所暴露的所述底部表面。所述第二绝缘层覆盖所述导电层。所述半导体晶片的翘曲小于550微米。

技术领域

发明涉及半导体晶片、半导体封装及其制造方法,且更明确地说,涉及具有低翘曲的半导体晶片;具有绝缘层的半导体封装,所述绝缘层具有实质低弹性模量或低热膨胀系数(CTE)中的任一者或两者;以及其制造方法。

背景技术

三维(3D)半导体封装可归因于其不对称结构以及邻近层之间的特性失配(例如CTE的失配)而经受翘曲。

为了减轻翘曲,可增加半导体封装的厚度。然而,半导体封装的厚度的增加呈现与电子产品的小型化倾向的冲突。

发明内容

在一些实施例中,一种半导体晶片包含衬底结构、第一绝缘层、导电层和第二绝缘层。所述衬底结构界定通孔。第一绝缘层覆盖所述衬底结构的表面。所述第一绝缘层延伸到所述通孔中,覆盖所述通孔的侧壁,且在所述通孔的底部暴露底部表面。所述导电层覆盖所述第一绝缘层以及所述第一绝缘层所暴露的底部表面。所述第二绝缘层覆盖所述导电层。所述半导体晶片的翘曲小于550微米。

在一些实施例中,一种半导体封装包含衬底结构、第一绝缘层、导电层和第二绝缘层。所述衬底结构界定通孔。第一绝缘层覆盖所述衬底结构的表面。所述第一绝缘层延伸到所述通孔中,覆盖所述通孔的侧壁,且在所述通孔的底部暴露底部表面。所述导电层覆盖所述第一绝缘层以及所述第一绝缘层所暴露的底部表面。所述第二绝缘层覆盖所述导电层。第一绝缘层的弹性模数和第二绝缘层的弹性模数各自小于1.7GPa。

在一些实施例中,一种制造半导体晶片的方法包含:提供界定通孔的衬底结构;在所述衬底结构的表面上形成第一绝缘层,并延伸到所述通孔中以覆盖所述通孔的侧壁且在所述通孔的底部暴露底部表面;在所述第一绝缘层以及所述第一绝缘层所暴露的所述底部表面上形成导电层;以及在所述导电层上形成第二绝缘层。所述半导体晶片的翘曲小于550微米。

附图说明

当结合附图阅读时,从以下具体实施方式最好地理解本发明的一些实施例的方面。应注意,各种结构可能未按比例绘制,且各种结构的尺寸可出于论述的清楚起见而任意增大或减小。

图1是根据本发明的一些实施例的半导体晶片的横截面视图;

图2是根据本发明的一些实施例的半导体封装的横截面图;

图3A、图3B、图3C、图3D、图3E、图3F和图3G说明根据本发明的一些实施例的制造半导体晶片的方法;

图4是根据本发明的一些实施例的半导体封装的横截面图;

图5A是根据本发明的一些实施例的半导体晶片的俯视图;

图5B是根据本发明的一些实施例的半导体封装的俯视图;

图5C是根据本发明的一些实施例的半导体封装的横截面图;以及

图6是根据本发明的一些实施例的半导体封装的横截面图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710307231.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top