[发明专利]液晶面板、液晶面板的制备方法和显示器在审

专利信息
申请号: 201710313135.7 申请日: 2017-05-05
公开(公告)号: CN107132700A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 陈齐松;刘海亮;陈宗维 申请(专利权)人: 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 李翔,李健
地址: 215300 江苏省苏州市昆山市开*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶面板 制备 方法 显示器
【权利要求书】:

1.一种液晶面板,其特征在于,所述液晶面板包括具有膜层(10)的彩膜基板(11)、与所述彩膜基板(11)相对设置的阵列基板(12)以及位于所述彩膜基板(11)和所述阵列基板(12)之间的隔垫物(13),其中,所述隔垫物(13)的靠近所述彩膜基板(11)的一端插设于开设在所述膜层(10)表面的凹槽(14)中。

2.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述膜层(10)包括黑色矩阵(100)、滤色层(101)以及覆盖所述黑色矩阵(100)和所述滤色层(101)的保护层(102),其中,所述凹槽(14)开设于所述保护层(102)的表面,并且所述凹槽(14)位于所述黑色矩阵(100)的上方。

3.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述阵列基板(12)包括多个以阵列形式排布的像素单元,每个所述像素单元内形成有薄膜晶体管(120)和像素电极(121),所述隔垫物(13)的一端位于相邻的所述像素单元之间。

4.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述隔垫物(13)为多个,多个所述隔垫物(13)间隔且均匀的分布于所述彩膜基板(11)和所述阵列基板(12)之间。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的液晶面板,其特征在于,所述隔垫物(13)包括具有与所述阵列基板(12)相接触的第一端面(132)的第一本体(130)以及具有与所述膜层(10)相接触的第二端面(133)的第二本体(131),其中,所述第一端面(132)的面积大于所述第二端面(133)的面积。

6.根据权利要求5所述的液晶面板,其特征在于,所述第一本体(130)在从所述阵列基板(12)到所述彩膜基板(11)的方向上呈逐渐收缩状。

7.根据权利要求6所述的液晶面板,其特征在于,所述第一本体(130)呈圆台体,所述第二本体(131)呈与所述圆台体同轴的圆柱体,所述第二端面(133)与所述圆台体的顶面匹配;并且/或者,所述隔垫物(13)为一体件。

8.根据权利要求7所述的液晶面板,其特征在于,所述圆台体的母线与所述第一端面(132)所成的夹角为30-60°。

9.一种液晶面板的制备方法,其特征在于,所述液晶面板包括具有膜层(10)的彩膜基板(11)、阵列基板(12)以及隔垫物(13),所述液晶面板的制备方法包括以下步骤:

S10、在所述膜层(10)的表面形成凹槽(14);

S20、装配所述阵列基板(12)和所述彩膜基板(11),使得所述隔垫物(13)位于所述阵列基板(12)和所述彩膜基板(11)之间,并将所述隔垫物(13)的一端插入所述凹槽(14)中。

10.根据权利要求9所述的液晶面板的制备方法,其特征在于,所述膜层(10)包括黑色矩阵(100)和滤色层(101),在所述S10步骤中,在所述黑色矩阵(100)和所述滤色层(101)上沉积第一材料形成表面开设有所述凹槽(14)的保护层(102),并使得所述凹槽(14)位于所述黑色矩阵(100)的上方。

11.根据权利要求9所述的液晶面板的制备方法,其特征在于,所述液晶面板的制备方法包括以下步骤:

S19、在装配所述阵列基板(12)和所述彩膜基板(11)之前,在所述阵列基板(12)上沉积第二材料形成所述隔垫物(13)。

12.根据权利要求11所述的液晶面板的制备方法,其特征在于,所述阵列基板(12)包括多个以阵列形式排布的像素单元,每个所述像素单元内形成有薄膜晶体管(120)和像素电极(121),在所述步骤S19中,使得所述隔垫物(13)位于相邻的所述像素单元之间。

13.一种显示器,其特征在于,所述显示器包括液晶面板和与所述液晶面板的相连的驱动电路,其中,所述液晶面板为权利要求1-8中任意一项所述的液晶面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司,未经东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710313135.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top