[发明专利]干燥装置有效
申请号: | 201710316370.X | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107065433B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 林治明;尹志;杨成发;王震;唐富强;黄俊杰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 黄灿;张博 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干燥 装置 | ||
本发明涉及一种干燥装置,用于掩膜板的干燥,包括干燥腔室,所述干燥腔室端口处设有风刀,所述干燥腔室侧壁靠近所述干燥腔室的底部的位置均设有用于将风刀产生的气流排出的出风口。本发明的有益效果是:出风口的设置减少了反弹气流的产生,从而减少反弹气流带起的灰尘对掩膜板的影响提高产品蒸镀良率。
技术领域
本发明涉及液晶产品制作技术领域,尤其涉及一种干燥装置。
背景技术
精细金属掩膜(FMM Mask)模式,是通过蒸镀方式将OLED(有机发光二极管,OrganicLight-EmittingDiode)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(低温多晶硅)背板上,利用掩膜板上的图形,蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。目前的Dry Bath(干燥腔室)3的底部是封闭结构(只有排液一个孔),如图1和图2所示,当风刀(AK)2进行向下吹气干燥掩膜板1的时候,由于干燥腔室3的下部分的几乎封闭式的结构,风刀2向下吹的气20在饱和的时候,会形成向上的气流10,向上的气流10会带动干燥腔室3底部沉积的Particle(灰尘),向上的气流10带动的灰尘会沉积到掩膜板1表面,沉积有灰尘的掩膜板1放到蒸镀腔室进行蒸镀的时候,会影响蒸镀产品的品质。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供一种干燥装置,减少反弹气流的产生,从而减少反弹气流带起的灰尘对掩膜板的影响。
为了达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种干燥装置,用于掩膜板的干燥,包括干燥腔室,所述干燥腔室端口处设有风刀,
所述干燥腔室侧壁靠近所述干燥腔室的底部的位置设有用于将风刀产生的气流排出的出风口。
进一步的,所述出风口通过管道与真空吸附结构连接。
进一步的,所述管道与所述出风口连接的一端的形状为漏斗状,所述管道与所述出风口连接的一端的面积大于所述管道远离所述干燥腔室内部的一端。
进一步的,所述干燥腔室相对的两个侧壁上、对应于所述干燥腔室的端口处设有所述风刀,所述管道靠近所述干燥腔室内部的一端、在第一方向上的长度等于所述干燥腔室相对应的侧壁的宽度,所述第一方向为所述管道对应的所述干燥腔室的侧壁的宽度方向。
进一步的,所述管道倾斜设置,且所述管道远离所述出风口的一端高于所述管道与所述出风口连接的一端,所述管道靠近所述干燥腔室底部的内表面为阶梯状。
进一步的,所述干燥腔室内设有使得风刀的气流通过并阻挡所述干燥腔室底部反弹的气流通过的单向阻挡结构,所述单向阻挡结构设置于所述出风口与所述风刀之间。
进一步的,所述单向阻挡结构包括多层叠加设置的过滤网。
进一步的,所述干燥腔室包括两个相对的侧壁,每个侧壁对应于所述干燥腔室的端口处设有所述风刀,每个所述侧壁的内表面靠近所述干燥腔室的底部的位置设有所述出风口,每个所述侧壁的内表面均设有第一隔板,所述第一隔板向所述干燥腔室的底部倾斜设置;
所述干燥腔室的底部设有与所述第一隔板配合控制风刀的气流方向以使得风刀的气流从所述出风口排出的第二隔板,所述第二隔板位于两个所述第一隔板之间,所述第二隔板的截面为倒置的V形。
进一步的,所述第一隔板靠近所述干燥腔室底部的一端具有向对应侧壁弯折的折边。
进一步的,所述折边与所述第一隔板的连接处为圆弧。
本发明的有益效果是:出风口的设置减少了反弹气流的产生,从而减少反弹气流带起的灰尘对掩膜板的影响提高产品蒸镀良率。
附图说明
图1表示现有技术中干燥装置结构示意图;
图2表示现有技术中干燥腔室内气流流向示意图;
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