[发明专利]目检装置有效
申请号: | 201710317403.2 | 申请日: | 2017-05-05 |
公开(公告)号: | CN108802059B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 孙超;冯晨丽;刘源 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;H01L21/66 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
本发明提供一种目检装置,包括:目检腔室,所述目检腔室上设有透明观测窗口,所述透明观测窗口包括透明基板及覆盖于所述透明基板内表面的增透膜;夹持装置,位于所述目检腔室内,适于夹持待检测晶圆,并带动所述待检测晶圆以任意角度旋转;光源,位于所述目检腔室内,且位于所述夹持装置远离所述透明观测窗口的一侧,适于提供照射至所述待检测晶圆表面的观测光;其中,所述增透膜适于对所述观测光增透。本发明的目检装置通过在透明观测窗口内侧设置对观测光增透的增透膜,可以避免透明观测窗口在观测光下对晶圆及金属件的反光,不会在待检测晶圆表面形成容易导致误判的投影,从而有效避免误判,提高目检的准确性。
技术领域
本发明属于半导体设备技术领域,特别是涉及一种目检装置。
背景技术
12寸大硅片对于表面平整度有着极尽苛刻的要求,为此,半导体行业发展出诸多高端光学设备对晶圆(wafer)表面进行测量,如颗粒测量仪SP3,以及专门用于晶圆边缘或背面检测的显微仪器。然而,不管有多么成熟与先进的光学手段,目检(VisualInspection)依旧是不可或缺的方法。这是由于当晶圆暴露在强光下时,晶圆表面的缺陷(defect)被反射会被人眼轻易的捕捉到,这种灵敏度是很多高端光学设备都无法达到的。
目检中常见的缺陷包括划痕(scratch)、凹陷(pit)及边缘芯片(edge chip)等等,其中,很多缺陷有时非常微小,很不容易被发现,因此需要给目检人员提供一个无干扰的晶圆表面。然而,在实际操作中发现,晶圆表面经常会遇到一些干扰因素,其中,最主要的干扰因素便是其他光线在晶圆表面的反光。更重要的是,有一些反光在晶圆表面的投影极易和一些缺陷混淆,进而影响目检人员的判断。譬如,由于目检装置的透明观测窗口一般采用透明有机玻璃,在观测光下,待检测晶圆的缺口(notch)会在透明有机玻璃上反射投影至待检测晶圆表面,缺口在待检测晶圆表面的投影往往会被目检人员误认为划痕;又譬如,目检装置中的旋转夹紧环(Rotate clamp)上的金属件在某些角度也会通过透明有机玻璃反射投影到待检测晶圆表面,这些金属件在待检测晶圆的投影往往也会被目检人员误认为划痕。这些经由透明有机玻璃反光造成的误判会对晶圆制造的良率造成很大的影响。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种目检装置,用于解决现有技术中由于目检装置中的透明有机玻璃观测窗口对观测光具有较强的反射能力,会将待检测晶圆的缺口或旋转夹紧环上的金属件反光投影到待检测晶圆表面而造成误判的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种目检装置,所述目检装置包括:
目检腔室,所述目检腔室上设有透明观测窗口,所述透明观测窗口包括透明基板及覆盖于所述透明基板内表面的增透膜;
夹持装置,位于所述目检腔室内,适于夹持待检测晶圆,并带动所述待检测晶圆以任意角度旋转;
光源,位于所述目检腔室内,且位于所述夹持装置远离所述透明观测窗口的一侧,适于提供照射至所述待检测晶圆表面的观测光;其中,
所述增透膜适于对所述观测光增透。
作为本发明的目检装置的一种优选方案,所述观测光为白光,所述增透膜为白光增透膜。
作为本发明的目检装置的一种优选方案,所述观测光包括黄光,所述增透膜包括黄光增透膜。
作为本发明的目检装置的一种优选方案,所述观测光还包括白光,所述增透膜还包括白光增透膜。
作为本发明的目检装置的一种优选方案,所述透明基板的数量为两个,其中,一个所述透明基板的内侧覆盖有黄光增透膜,另一个所述透明基板的内侧覆盖有白光增透膜。
作为本发明的目检装置的一种优选方案,覆盖有所述黄光增透膜的透明基板位于覆盖有所述白光增透膜的透明基板的内侧。
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