[发明专利]一种光罩及玻璃基底的制作方法

权利要求书

1.一种光罩，所述光罩包括透光区和阻光区，其特征在于，所述光罩还包括部分透光区；

所述部分透光区位于所述阻光区和透光区之间，以允许光线部分透过；

所述部分透光区包括若干相同的遮光膜，相邻遮光膜之间形成透光的缝隙，所述部分透光区的透过率沿透光区向阻光区方向逐渐减小。

2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光膜为矩形。

3.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述缝隙的宽度沿透光区向阻光区方向线性减小，所述遮光膜宽度不变。

4.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述遮光膜的宽度沿透光区向阻光区方向线性增大，所述缝隙宽度不变。

5.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光膜和阻光区采用相同的遮光材料制成。

6.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光膜和阻光区采用透过率为零的铬膜。

7.一种玻璃基底的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、在玻璃基板上沉积薄膜；

步骤2、在所述薄膜上涂布光阻，并利用权利要求1-6中任一项所述的光罩对其进行曝光处理；

步骤3、对曝光后的玻璃基板依次进行显影、蚀刻和剥膜处理，以得到所述玻璃基底。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，通过调整部分透光区遮光膜的宽度、数量和缝隙的宽度来调整部分透光区的干涉程度，以控制对应部分透光区位置的光阻的曝光程度。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述步骤2中，利用所述缝隙的宽度沿透光区向阻光区方向线性减小，所述遮光膜宽度不变的光罩对玻璃基板进行曝光处理，或者利用所述遮光膜的宽度沿透光区向阻光区方向线性增大，所述缝隙宽度不变的光罩对玻璃基板进行曝光处理。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，对所述显影后的玻璃基板进行蚀刻和剥膜处理后，所述薄膜的边缘形成锥度角平缓的过渡面。