[发明专利]半导体装置封装和其形成方法有效

专利信息
申请号: 201710325468.1 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN107946256B 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 黄俊钦;叶勇谊;许哲铭 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/528;H01L21/50;H01L21/60
代理公司: 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 萧辅宽<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 中国台湾高雄市楠梓*** 国省代码: 中国台湾;TW
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 封装 形成 方法
【说明书】:

发明提供一种准备好装配的半导体装置封装,所述半导体装置封装包含:半导体衬底;第一凸块下金属层,其安置于所述半导体衬底上;第一导电柱,其安置于所述第一凸块下金属层上;以及第二导电柱,其安置于所述第一导电柱上。所述第一导电柱的材料不同于所述第二导电柱的材料,且所述第二导电柱的所述材料包含抗氧化剂。

技术领域

背景技术

为了允许更多组件集成到半导体芯片或半导体装置封装中,一个方法是采用倒装芯片结构。对于倒装芯片结构,第一晶圆经倒装,且借由导电凸块附接到第二晶圆上。焊料通常用以装配半导体装置封装。安置于第一晶圆的衬垫或铜柱上的焊料在附接到第二晶圆的另一衬垫或铜柱之前经回焊。衬底和组件可在回焊操作期间经受翘曲,这样可能损坏焊接点。此外,半球面状焊料凸块(其借由回焊操作得以形成)还可促成完整半导体装置封装的翘曲。此类现象可在封装的边缘处特别明显,其中翘曲更加强烈。翘曲可致使衬底弯曲、翘曲或开裂。因此,需要提供改善型半导体装置封装以解决上述问题。

发明内容

在一些实施例中,揭示一种准备好装配的半导体装置封装。所述半导体装置封装包括半导体衬底、第一凸块下金属(UBM)层、第一导电柱和第二导电柱。所述第一凸块下金属层安置于所述半导体衬底上。所述第一导电柱安置于所述第一凸块下金属层上。所述第二导电柱安置于所述第一导电柱上。所述第一导电柱的材料不同于所述第二导电柱的材料,且所述第二导电柱准备好被装配到外部装置。在一些实施例中,所述第二导电柱的所述材料包含抗氧化剂。

在一些实施例中,揭示一种半导体封装组合件。所述半导体封装组合件包括:第一半导体衬底、第一凸块下金属层、第一导电柱、第二导电柱、第二凸块下金属层、第三导电柱、第四导电柱、第二半导体衬底、第一导电垫和第二导电垫。所述第一凸块下金属层安置于所述第一半导体衬底上。所述第一导电柱安置于所述第一凸块下金属层上。所述第二导电柱安置于所述第一导电柱上,其中所述第一导电柱的材料不同于所述第二导电柱的材料。所述第二凸块下金属层安置于所述第一半导体衬底上。所述第三导电柱安置于所述第二凸块下金属层上。所述第四导电柱安置于所述第三导电柱上,其中所述第三导电柱的材料不同于所述第四导电柱的材料。所述第一导电垫安置于所述第二半导体衬底上,且所述第二导电柱接合到所述第一导电垫。所述第二导电垫安置于所述第二半导体衬底上,且所述第四导电柱接合到所述第二导电垫。所述第二导电柱的所述材料的体积不同于所述第四导电柱的所述材料的体积。

在一些实施例中,揭示一种形成准备好装配的半导体装置封装的方法。所述方法包括:在半导体衬底上形成第一凸块下金属凸块下金属层;在所述第一凸块下金属层上形成第一导电柱;以及在所述第一导电柱上形成第二导电柱。所述第一导电柱的材料不同于所述第二导电柱的材料,且所述第二导电柱准备好以第一导电垫进行装配。

附图说明

当结合附图阅读时,从以下具体实施方式最好地理解本发明的一些实施例的方面。应注意,各种特征可能未按比例绘制,且各种特征的尺寸可出于论述的清楚起见任意增大或减小。

图1是说明半导体封装组合件的横截面图。

图2是说明根据一些实施例的半导体装置封装的横截面图。

图3是说明根据一些实施例的半导体装置封装的一部分的横截面图。

图4是说明根据一些实施例的半导体封装组合件的横截面图。

图5是说明根据一些实施例的半导体封装组合件的一部分的装配工艺的横截面图。

图6是说明根据一些实施例的半导体封装组合件的一部分的装配工艺的横截面图。

图7A、图7B、图7C、图7D、图7E、图7F、图7G和图7H是根据本发明的一些实施例的在各阶段处所制造的半导体装置封装的一部分的横截面图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710325468.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top