[发明专利]一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板

权利要求书

1.一种配向膜制备方法，其特征在于，包括：

在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一；

在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致；

对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：

采用APR版在所述非有效成膜区形成补偿膜层，其中，所述APR版线数随所述非有效成膜区内待配向膜层厚度的变小而递增。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：

采用点喷涂方式在所述非有效成膜区形成补偿膜层，并控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增，包括：

通过控制所述喷头的数量、流量、喷涂时间中的至少一种，控制所述喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述在所述非有效成膜区形成补偿膜层，还包括：

检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度；

根据所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度，调整所述喷头的喷出量。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度，包括：

通过光传感器实时检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度；或者，

通过膜厚测试仪检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的方法，其特征在于，所述补偿膜层的厚度范围为

8.一种显示基板，应用于显示面板，其特征在于，包括基板，以及在所述基板上形成的待配向膜层和补偿膜层；其中，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区；在所述非有效成膜区内，所述补偿膜层覆盖所述待配向膜层，且所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述非有效成膜区内所述补偿膜层的厚度范围为

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包含如权利要求8或9所述的显示基板。