[发明专利]一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，特别是涉及一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板。

背景技术

在TFT(Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管)-LCD(Liquid Crystal Display液晶显示器)制作中，无论TFT基板还是CF(color filter，彩色滤光片)基板，其利用率均不可能为100％，除了受制于面板的尺寸与数量以外，其周边均会有一定区域为成膜不均或者不能成膜区，这个区域的大小受制于设备能力。

不能成膜区一般有部分膜层或无膜层，因其段差不受控制，故在Rubbing(摩擦)配向过程中易影响Cloth(摩擦布)特性，导致出现显示面板面内显示不均等不良情况，并且无法从后端工艺进行有效改善，造成了较大的良率损失。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本发明实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板。

本发明提供一种配向膜制备方法，包括：

在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一；

在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致；

对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。

可选地，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：

采用APR版在所述非有效成膜区形成补偿膜层，其中，所述APR版线数随所述非有效成膜区内待配向膜层厚度的变小而递增。

可选地，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：

采用点喷涂方式在所述非有效成膜区形成补偿膜层，并控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。

可选地，所述控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增，包括：

通过控制所述喷头的数量、流量、喷涂时间中的至少一种，控制所述喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。

可选地，所述在所述非有效成膜区形成补偿膜层，还包括：

检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度；

根据所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度，调整所述喷头的喷出量。

可选地，所述检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度，包括：

通过光传感器实时检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度；或者，

通过膜厚测试仪检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度。

可选地，所述补偿膜层的厚度范围为

本发明实施例又提供了一种显示基板，应用于显示面板，包括基板，以及在所述基板上形成的待配向膜层和补偿膜层；其中，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区；在所述非有效成膜区内，所述补偿膜覆盖所述待配向膜层，且所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致。

可选地，所述非有效成膜区内所述补偿膜层的厚度范围为

本发明实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包含上述的显示基板。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

通过本发明实施例，在基板边缘区域的非有效成膜区形成补偿膜层，使非有效成膜区的待配向膜层与补偿膜层的总厚度与成膜保证区的待配向膜层厚度一致，从而使基板非有效成膜区与成膜保证区之间的段差较小并且受控制，从而避免了在Rubbing过程中影响Cloth特性，减少了显示面板面内显示不均等不良情况，提升了良率。

附图说明

图1是本发明实施例一的一种配向膜制备方法的步骤流程图；

图2是本发明实施例一的形成待配向膜后的基板的示意图；

图3是本发明实施例一的形成补偿膜层后的基板的示意图；

图4是本发明实施例二的一种配向膜制备方法的步骤流程图；

图5是本发明实施例三的一种配向膜制备方法的步骤流程图；

图6是本发明实施例四的一种显示基板的示意图。

具体实施方式