[发明专利]一种触控电极及触控电极制作方法

权利要求书

1.一种触控电极，其特征在于，包括触控电极层，每个所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

2.根据权利要求1所述的触控电极，其特征在于，所述触控电极层的数量为两个，两个所述触控电极层层叠设置于基板，远离所述基板的触控电极层设有过孔，靠近所述基板的触控电极层通过过孔与远离所述基板的触控电极层电连接，远离所述基板的触控电极层与靠近所述基板的触控电极层的触控电极部的长度方向不同。

3.根据权利要求1所述的触控电极，其特征在于，所述触控电极部的材料为纳米银线。

4.一种触控电极制作方法，其特征在于，包括：

在基板形成导电涂层；

对所述导电涂层进行图形化，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

5.根据权利要求4所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述导电涂层包括依次层叠设置的透明感光膜、纳米银线导电膜和载膜，其中，所述透明感光膜与基板的表面接触。

6.根据权利要求5所述的触控电极制作方法，其特征在于，对导电涂层进行图形化，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形，包括：

提供第一掩膜版，所述第一掩膜版的完全透光部对应触控电极图案，所述第一掩膜版的完全遮光部对应间隙区域；

采用所述第一掩膜版对导电涂层进行曝光处理，然后去除所述导电涂层的载膜；

提供第二掩膜版，所述第二掩膜版的完全透光部对应触控电极图案，所述第二掩膜版的半透光部对应间隙区域；

采用所述第二掩膜版对去除载膜的导电涂层进行曝光处理，得到待显影的导电涂层；

对所述待显影的导电涂层进行显影，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

7.根据权利要求6所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述第一掩膜版的完全透光部的透光率为100％，所述第一掩膜版的完全遮光部的遮光率为100％；

所述第二掩膜版的完全透光部的透光率为100％，所述第二掩膜版的半透光部包括多个半透光子部，多个所述半透光子部的透光率以半透光部的中心为圆心向外递增或递减。

8.根据权利要求4所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述在基板形成导电涂层，包括：

在基板形成靠近基板子涂层；所述靠近基板子涂层包括层叠设置的靠近基板透明感光膜和靠近基板纳米银线导电膜，所述靠近基板透明感光膜与所述基板接触；

对所述靠近基板子涂层进行图形化，得到靠近基板触控电极层；所述靠近基板触控电极层包括多个靠近基板触控电极部，相邻两个所述靠近基板触控电极部由靠近基板间隙隔开，所述靠近基板间隙沿垂直所述靠近基板触控电极层方向的截面形状为弧形；

在靠近基板触控电极层形成远离基板子涂层；所述远离基板子涂层包括层叠设置的远离基板透明感光膜、远离基板纳米银线导电膜和远离基板载膜；所述远离基板透明感光膜分别与所述靠近基板纳米银线导电膜和所述靠近基板透明感光膜接触。

9.根据权利要求8所述的触控电极制作方法，其特征在于，对导电涂层进行图形化，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形，包括：

对所述远离基板子涂层进行图形化，得到远离基板触控电极层；所述远离基板触控电极层包括多个远离基板触控电极部，相邻两个所述远离基板触控电极部由远离基板间隙隔开，所述远离基板间隙沿垂直所述远离基板触控电极层方向的截面形状为弧形；其中，

所述远离基板触控电极层与所述靠近基板触控电极层的触控电极部的长度方向不同。