[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示面板

权利要求书

1.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：

设置在衬底基板之上的遮光层；

设置在所述遮光层之上的有源层；

其中，所述遮光层在面向所述有源层的一面设置有凹槽，所述凹槽的底面在所述衬底基板的正投影覆盖所述有源层在所述衬底基板的正投影。

2.如权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述遮光层为栅极，所述薄膜晶体管还包括：

设置在所述遮光层与所述有源层之间的栅极绝缘层；

设置在所述有源层之上的源极和漏极。

3.如权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述薄膜晶体管还包括：

设置在所述遮光层与所述有源层之间的钝化层；

设置在所述有源层之上的栅极绝缘层；

设置在所述栅极绝缘层之上的栅极；

设置在所述栅极之上的层间绝缘层；

设置在所述层间绝缘层之上的源极和漏极，其中，所述源极通过第一过孔与所述有源层连接，所述漏极通过第二过孔与所述有源层连接。

4.如权利要求2或3所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述凹槽的开口深度为1000埃～10000埃。

5.如权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述凹槽的侧壁与所述凹槽的底部之间的夹角大于或等于90°。

6.一种阵列基板，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的薄膜晶体管。

7.一种显示面板，包括背光源，其特征在于，所述显示面板还包括如权利要求6所述的阵列基板，所述阵列基板设置在所述背光源的出光侧。

8.一种薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

在衬底基板之上形成包括有凹槽的遮光层；

在所述遮光层之上形成有源层，其中，所述凹槽的底面在衬底基板的正投影覆盖所述有源层在所述衬底基板的正投影。

9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板之上形成包括有凹槽的遮光层，具体包括：

在衬底基板之上形成第一薄膜层；

通过半色调掩模板，在所述第一薄膜层之上形成具有不同厚度区域的光刻胶层的图案，其中，所述光刻胶层的图案包括第一区域和第二区域，所述光刻胶层在所述第二区域的厚度小于在所述第一区域的厚度，所述凹槽的所述底面在所述衬底基板的正投影与所述第二区域在所述衬底基板的正投影重叠；

去除未被图案化的所述光刻胶层遮挡的所述第一薄膜层；

去除所述第二区域的所述光刻胶；

对与所述第二区域对应的所述第一薄膜层刻蚀预设时长；

去除剩余的所述光刻胶层。

10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述对与所述第二区域对应的所述第一薄膜层刻蚀预设时长，具体包括：对与所述第二区域对应的所述第一薄膜层刻蚀预设时长，以使与所述第二区域对应的所述第一薄膜层的厚度减半。