[发明专利]一种平底钻的镀膜工艺在审

专利信息
申请号: 201710342722.9 申请日: 2017-05-16
公开(公告)号: CN107523791A 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 丁黎明 申请(专利权)人: 丁黎明
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C03C17/34;C03C17/36
代理公司: 杭州知瑞知识产权代理有限公司33271 代理人: 陈宜芳
地址: 322200 浙江省金华市浦江县*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 平底 镀膜 工艺
【说明书】:

技术领域

发明属于镀膜技术领域,具体涉及一种平底钻的镀膜工艺。

背景技术

人们的日常生活总是离不开装饰品的点缀,它既可以让一个人变的更加高贵、年轻和漂亮,也可以使人居住生活的环境色彩斑斓、熠熠生辉,让人心旷神怡。真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片,如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜,改变加工红硬性。

为了让平底钻显示出五光十色的装饰效果,技术人员主要通过以下方法实现:一是渗入金属离子,如渗入钛或铁离子制备蓝宝石、渗入钴离子制备黄玉。但此方法需在非常高的温度下( 通常大于1500℃ )进行,而且特定的金属离子只对特定的宝石起作用,因此制备成本高昂,良品率低;二是引入放射性杂质,然后通过同步辐射或中子辐射产生颜色,如在黄玉中产生蓝色。此方法的缺点是需要经过很长时间的辐射冷却,否则高能放射线会对人体健康带来较大危害。三是在玻璃制品上沉积干涉膜,干涉膜一般由高折射率和较低折射率的透明介电薄膜交替形成。此方法虽然可以呈现各种颜色,但是因干涉效应源于薄膜光学厚度与对应光波长的严格匹配,因此需精确控制干涉膜中各薄膜的厚度,这给制备过程带来了极大的挑战。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种平底钻的镀膜工艺。

为解决上述技术问题,本发明采用如下的技术方案:

本发明的一种平底钻的镀膜工艺,在平底钻基体上间隔镀上若干着色层和透光层,镀膜的层数为10-16层,其中第一层为着色层并且第二层为透光层,平底钻基体上镀奇数层;或第一层为透光层并且第二层为着色层,平底钻基体上镀偶数层。

优选地,第一层膜的厚度为40-360nm,镀膜时间为50-72s。

优选地,第二层膜至最外层膜的厚度均为140-260nm,镀膜时间为28-52s。

优选地,着色层的材料为TiO2、Ti3O5和锌中的任意一种。

优选地,透光层的材料为SiO2、Al2O3和SiO中的任意一种。

优选地,镀膜过程的环境温度控制在70±10℃。

优选地,镀膜过程的真空度为0.5-2.5×10-2Pa。

优选地,当真空度为0.5×10-2Pa时,镀第一层所用的时间是72s,当真空度为2.5×10-2Pa时,镀第一层所用的时间是50s。

优选地,基体为高纤玻璃或普通玻璃。

采用本发明具有如下的有益效果:

1、通过本发明的镀膜工艺制备的平底钻能在光照下呈现多彩艳丽的颜色。

2、本发明的平底钻的镀膜工艺工艺简单,成本低廉。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

本发明的一种平底钻的镀膜工艺,在平底钻基体上间隔镀上若干着色层和透光层,镀膜的层数为10-16层,其中第一层为着色层并且第二层为透光层,平底钻基体上镀奇数层;或第一层为透光层并且第二层为着色层,平底钻基体上镀偶数层。第一层膜的厚度为40-360nm,镀膜时间为50-72s。第二层膜至最外层膜的厚度均为140-260nm,镀膜时间为28-52s。着色层的材料为TiO2、Ti3O5和锌中的任意一种。透光层的材料为SiO2、Al2O3和SiO中的任意一种。镀膜过程的环境温度控制在70±10℃。镀膜过程的真空度为0.5-2.5×10-2Pa。当真空度为0.5×10-2Pa时,镀第一层所用的时间是72s,当真空度为2.5×10-2Pa时,镀第一层所用的时间是50s。基体为高纤玻璃或普通玻璃。

通过以上工艺所制备的平底钻在光照下呈现多彩、艳丽的颜色,以下通过几个具体的实施例来说明本发明的实施过程。

实施例1

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丁黎明,未经丁黎明许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710342722.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code