[发明专利]碱性蚀刻液循环再生系统在审
申请号: | 201710346673.6 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN108301000A | 公开(公告)日: | 2018-07-20 |
发明(设计)人: | 宋国和 | 申请(专利权)人: | 佛山鑫仁源环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C22B3/02;C25C1/12;C25C7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528000 广东省佛山市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水线 循环再生系统 碱性蚀刻液 蚀刻 蚀刻液 废液 氨水 油水混合液 废气污染 碱性蚀刻 系统处理 再生循环 最小线宽 电解液 废气线 净化水 可循环 再生液 萃取剂 反萃 回收率 排放 | ||
碱性蚀刻液循环再生系统,包括有:蚀刻液管线,萃取剂管线,电解液线,油水混合液线,洗氨水洗水线,洗氯水洗水线,反萃水洗水线,市水线,废气线,DI水线。具有安全性和灵活性的碱性蚀刻液循环再生系统,效率高,成本低,提高了系统处理废液的灵活性、安全性和可靠性。能满足PCB行业最小线宽2mil的蚀刻,其蚀刻因子提升3‑5级。增加了再生液蚀刻液的稳定性,减少了废液的排放达到百分之百循环使用,延长了循环时间,且实现了碱性蚀刻工序的清洁生产。具有设计合理、再生循环时间长、铜回收率高及废气污染少、净化水可循环使用等特点。
技术领域
本发明涉及印制电路板生产企业酸碱性蚀刻废液的回收处理技术,具体涉及一种碱性蚀刻液循环再生系统。
背景技术
印制电路板是电子信息产业的基础,半导体,现代高新科技产品都离不开印制电路板。随着全球环保意识的增强,各国把预防电子制造业在生产过程中对人体及生态平衡所造成的恶劣影响提到重要的议事日程。在我国,保护好环境才能实现经济持续发展,企业经济效益,环境效益也才能同步发展。印制电路板在生产过程当中会产生大量的含铜废水,如酸碱蚀刻液,铬和铜废水,微蚀液,粗化等废水都含有大量的铜离子。其中废蚀刻液处理一直是困扰企业的问题。
申请号2016106460864的发明公开了一种封闭式自体循环的碱性蚀刻液循环再生系统,它包括依次连接的蚀刻线、中转母液罐、母液罐、铜离子无损分离系统、再生子液罐、配液罐、过滤器和子液罐,铜离子无损分离系统还连接有一提铜装置,蚀刻线、中转母液罐、母液罐、铜离子无损分离系统、再生子液罐、配液罐、过滤器、子液罐、提铜装置上均设置有检测对应部件的检测仪,检测仪与控制器连接,控制器内设置有能将异常信息发给对应负责人的短消息模块。
申请号201510858476.3涉及一种印刷电路板酸、碱性蚀刻废液循环利用装置,由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成,其中有机过滤器为并联的两组,其中装有有机过滤膜组件;采用两组有机过滤器并联方式运行,由于使用了超滤膜或纳滤膜,除去了印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取后的萃余液(再生液)中有机物,实现了在线过滤方式,结构简单、造价低、操作方便。通过在线过滤的方法就可以有效的过滤萃余液(再生液)中有机杂质,提升印制电路板高密度互联(HDI)产品蚀刻工艺精度及效率。
目前有很多从废蚀刻液中提取铜的方法,但这些方法都存在以下缺点:萃取剂需求量大,再生液品质不稳定,电流效率不高,设备占地面积大,设备运行不稳定,运行过程中会有萃取剂流失、电解槽易短路等。现在急需一种新型的处理技术来处理这一问题。
发明内容
为了解决上述现有技术中存在的问题,本发明提供一种碱性蚀刻液循环再生系统。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
碱性蚀刻液循环再生系统,包括有:蚀刻液管线,萃取剂管线,电解液线,油水混合液线,洗氨水洗水线,洗氯水洗水线,反萃水洗水线,市水线,废气线,DI水线。
本发明和现有技术相比,其优点在于:具有安全性和灵活性的碱性蚀刻液循环再生系统,效率高,成本低,提高了系统处理废液的灵活性、安全性和可靠性。能满足PCB行业最小线宽2mil的蚀刻,其蚀刻因子提升3-5级。增加了再生液的稳定性,减少了废液的排放,延长了循环时间,且实现了碱性蚀刻工序的清洁生产。具有设计合理、再生循环时间长、铜回收率高及废气污染少、净化水可循环使用等特点。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
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