[发明专利]集成电路设计方法及装置、芯片版图分解和着色方法及装置

权利要求书

1.一种集成电路设计方法，其特征在于，包括：

对单元库中的单元版图进行面向多次光刻成形工艺的分解和着色，构建单元库中的单元版图对应的多套单元掩模数据；一套单元掩模数据对应单元版图面向多次光刻成形工艺的一套分解和着色方案；

对每个单元版图的每套单元掩模数据分别进行单元电路特征化，分别得到每个单元版图的每套单元掩模数据对应的单元电路特征化数据；

利用每套所述单元电路特征化数据、寄存器传输级或其更高层设计网表及设计约束条件，进行逻辑综合，得到门级网表；

根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图，并结合每个单元版图的每套单元掩模数据进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果。

2.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图，并结合每个单元版图的每套单元掩模数据进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果，具体包括：

根据每个单元版图的每套单元掩模数据中的单元边界图形所在的子掩模信息，确定不同单元之间的间距；

根据所述不同单元之间的间距，确定每个单元的邻近单元；

根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图并结合确定的邻近单元，进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果。

3.根据权利要求2所述的设计方法，其特征在于，所述根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图，并结合每个单元版图的每套单元掩模数据进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果，具体包括：

按照间距最小的原则选择已确定单元掩模数据的邻近单元的单元掩模数据；

根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图，并结合每个单元的邻近单元的单元掩模数据进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果。

4.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图，并结合每个单元版图的每套单元掩模数据进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果，具体包括：

按照单元电路性能最好的原则选择已确定单元掩模数据的邻近单元的单元掩模数据；

根据所述门级网表和单元库中的单元摘要视图，并结合每个单元的邻近单元的单元掩模数据进行平面规划与布局，得到平面规划与布局结果。

5.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述构建单元库中的单元版图对应的多套单元掩模数据之后，所述对每个单元版图的每套单元掩模数据分别进行单元电路特征化之前，还包括：

对每个单元版图的每套单元掩模数据进行光学邻近效应修正；

所述对每个单元版图的每套单元掩模数据分别进行单元电路特征化，具体包括：

对光学邻近效应修正后的每个单元版图的每套单元掩模数据分别进行单元电路特征化。

6.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述构建单元库中的单元版图对应的多套单元掩模数据之后，所述对每个单元版图的每套单元掩模数据分别进行单元电路特征化之前，还包括：

对所述每个单元版图的每套单元掩模数据进行光刻仿真，得到每个单元版图的每套单元掩模数据光刻仿真后的图形形貌；

对所述每个单元版图的每套单元掩模数据光刻仿真后的图形形貌进行寄生效应提取；

所述对每个单元版图的每套单元掩模数据分别进行单元电路特征化，具体包括：

根据提取到的每个单元版图的每套单元掩模数据的寄生效应进行单元电路特征化。

7.根据权利要求1-6任一项所述的设计方法，其特征在于，所述得到平面规划与布局结果之后，还包括：

以每个单元版图的多套分解和着色方案作为限制条件对所述平面规划与布局结果进行布线，得到全芯片版图。