[发明专利]一种微孔铽配位聚合物荧光识别材料及制备方法在审

专利信息
申请号: 201710350292.5 申请日: 2017-05-18
公开(公告)号: CN107057083A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 邓冬生;刘萍;吉保明 申请(专利权)人: 洛阳师范学院
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;C09K11/06
代理公司: 洛阳明律专利代理事务所(普通合伙)41118 代理人: 智宏亮
地址: 471934 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 微孔 配位聚合 荧光 识别 材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种微孔铽配位聚合物荧光识别材料,其特征是:聚合物结构简式为:[Tb2(pdc)3]n,其中含有3,5-吡啶二羧酸配体,中心铽离子的配位数为8,呈现出扭曲的四方反棱柱几何构型;在八个直接与Tb3+配位的O原子中,有七个O原子来自六个不同的3,5-吡啶二羧酸配体,一个来自DMF溶剂分子,

沿着晶体a轴方向,整个分子骨架呈现出大小为6.3 × 8.5 Å2规整的孔洞结构,未配位的吡啶基团分布于孔洞的四周,并指向孔道中心。

2.根据权利要求1所述的微孔铽配位聚合物荧光识别材料,其特征是:所述的配位聚合物晶体属于立方晶系,空间群为Pnma,晶胞参数为a = 8.5395(8) Ǻ,b = 28.629(3) Ǻ,c= 15.9093(15) Ǻ,α = β = γ = 90°,V = 3889.5(6) Ǻ3

3.根据权利要求1所述的微孔铽配位聚合物荧光识别材料,其特征是:所述的配位聚合物利用孔洞中未配位的吡啶基团吸附亲N原子的过渡金属离子,从而改变配位聚合物本身的荧光强度,配位聚合物吸附过渡金属离子后,荧光发生猝灭效应。

4.一种如权利要求1所述的微孔铽配位聚合物荧光识别材料制备方法,其特征是:将3,5-吡啶二羧酸配体(简称H2pdc)和TbCl3·6H2O加入N,N-二甲基甲酰胺(DMF)溶液中,之后将混合液置于耐压的套管中,密闭后于油浴中130°C加热24小时,自然冷却至室温,得到黄色晶体,再将得到的晶体于真空下150°C抽24小时,得到一种新型微孔铽配位聚合物,其结构式为[Tb2(pdc)3]n

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