[发明专利]形成布局图案的方法

权利要求书

1.一种形成布局图案的方法，包含:

提供一阵列图案，包含多个特征图形，等距地沿着一第一方向排列成多列，其中第n-1列、第n列以及第n+1列该特征图形在一第二方向上交错；

在各列该特征图形之间插入一辅助图形；

取得第n列和第n-1列该特征图形的一最短距离d1和第n+1列和第n-1列该特征图形的一最短距离d2；

根据该最短距离d1和该最短距离d2的差异，调整插入在第n列的该辅助图形，其中插入在第n列的该辅助图形位于该最短距离d2上；以及

将包含该辅助图形的该阵列图案输出至一光掩模，

其中根据d1与d2的差异调整该辅助图形，包含调整该辅助图形的形状、尺寸或位置至少其中一者。

2.如权利要求1所述的方法，其中该第一方向与该第二方向的夹角介于70度至75度之间。

3.如权利要求1所述的方法，其中第n-1列、第n列以及第n+1列该特征图形，在该第二方向上不重叠。

4.如权利要求1所述的方法，其中该特征图形为平行四边形，一相对边与该第一方向平行，另一相对边与该第二方向平行。

5.如权利要求1所述的方法，其中该辅助图形与该特征图形不接触，并且与该最短距离d2两端的该特征图形等距。

6.如权利要求1所述的方法，其中该辅助图形与该最短距离d2两端的该特征图形接触。

7.如权利要求1所述的方法，其中该辅助图形由多个子辅助图形构成。

8.一种形成DRAM布局图案的方法，包含:

提供一阵列图案，包含多个主动区域，等距地沿着一第一方向延伸排列成多列，其中第n-1列、第n列以及第n+1列该主动区域在一第二方向上交错；

定义一接触插塞图形，位于各列各该主动区域的中间；

在各列该接触插塞图形之间插入一辅助图形；

取得第n列和第n-1列该接触插塞图形的一最短距离d1和第n+1列和第n-1列该接触插塞图形的一最短距离d2；

根据该最短距离d1和该最短距离d2的差异调整插入在第n列的该辅助图形，其中插入在第n列的该辅助图形位于该最短距离d2上；以及

将该接触插塞图形以及该辅助图形输出至一光掩模上，

其中根据d1与d2的差异调整该辅助图形，包含调整该辅助图形的形状、尺寸或位置至少其中一者。

9.如权利要求8所述的方法，其中该第一方向与该第二方向的夹角介于70度至75度之间。

10.如权利要求8所述的方法，其中第n-1列、第n列以及第n+1列的该接触插塞图形，在该第二方向上不重叠。

11.如权利要求8所述的方法，其中该接触插塞图形为平行四边形，其中一相对边与该第一方向平行，另一相对边与该第二方向平行。

12.如权利要求8所述的方法，其中插入在第n列的该辅助图形位于第n列的两相邻该主动区域的相对端点之间。

13.如权利要求8所述的方法，其中另包含定义多条沿着该第二方向延伸的字符线，以及多条沿着一第三方向延伸的位线，其中该第二方向与该第三方向垂直。

14.如权利要求13所述的方法，其中该辅助图形与该字符线重叠，并且位于两相邻该位线之间。