[发明专利]配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统

权利要求书

1.一种移除系统，其被配置为从组件的基板移除涂层，所述系统包括：

第一能量源，其被配置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第一电磁辐射流产生所述组件上的第一特性；

第二能量源，其被配置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流产生所述组件上的第二特性；

传感器，其被配置为检测由所述第一电磁辐射流和所述第二电磁辐射流产生的所述第一特性和所述第二特性；

控制器，其可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述传感器；

其中，所述控制器被配置为从所述传感器接收检测到的所述第一特性和所述第二特性，以及从分别的所述第一能量源和所述第二能量源接收相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平；以及

其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及从所述第一能量源和所述第二能量源接收的相关的所述功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。

2.如权利要求1所述的移除系统，其中所述第一能量源被配置为将所述第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第一特性表示所述涂层从所述基板的移除。

3.如权利要求2所述的移除系统，其中所述第二能量源被配置为将所述第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第二特性表示所述涂层是否存在于所述基板上。

4.如权利要求3所述的移除系统，还包括功率源，该功率源可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源；

其中，所述控制器是闭环过程控制器，该闭环控制器配置为从所述传感器和所述功率源接收输入；以及

其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器和所述功率源接收的输入，为所述功率源中的至少一个提供信号，以控制由所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个所发射的功率。

5.如权利要求4所述的移除系统，其中所述传感器是光学传感器和光谱分析器之一。

6.如权利要求1所述的移除系统，其中所述第一特性和所述第二特性包括波长和强度。

7.一种从组件的基板移除涂层的方法，所述方法包括：

将第一电磁辐射流从第一能量源引导到所述组件上；其中所述第一能量源被以第一功率水平赋能，以便所述第一电磁辐射流使第一特性在所述组件上产生；

将第二电磁辐射流从处在第二功率水平的第二能量源引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流使第二特性在所述组件上产生；其中所述第二能量源被以第二功率水平赋能，以便所述第二电磁辐射流使第二特性在所述组件上产生；

检测所述组件的第一特性以及所述第一能量源的相关的所述第一功率水平；

检测所述组件的第二特性以及所述第二能量源的相关的所述第二功率水平；

将检测到的所述第一特性和所述第二特性以及相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平中的至少一个发送给控制器；

根据检测到的所述第一特性和所述第二特性，在所述控制器中确定所述涂层是否布置在所述组件的基板上；以及

响应于确定所述涂层是否被布置在所述基板上，将更新的功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。

8.如权利要求7所述的方法，其中，产生的所述第一特性表示所述涂层从所述基板的移除。

9.如权利要求8所述的方法，其中，产生的所述第二特性表示所述涂层是否存在于所述基板上。

10.如权利要求9所述的方法，还包括：

从传感器和所述功率源接收输入；以及

响应于从所述传感器和所述功率源接收的输入，为所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源提供信号，以控制功率的发射。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述传感器是光学传感器和光谱分析器之一。

12.如权利要求7所述的方法，其中所述第一特性和所述第二特性包括波长和强度。