[发明专利]配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统

说明书

本申请是申请日为2012年10月22日，申请号为201280063143.6，发明名称为“配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统”的申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求在2011年10月21号递交的申请号为61/549,818的美国临时专利申请的权益，该美国临时专利申请据此以引用方式被全部并入。

技术领域

本公开涉及一种被配置为使用电磁辐射从基板除去涂层的系统。

背景技术

飞机、车辆、船以及许多其它构造物具有原始、被喷涂的表面、或者以其它方式被涂层覆盖的表面。随着时间的推移，该涂层可能变得黯淡、脱落，或者需要被移除以便另外的涂层可以被应用于该表面。

发明内容

一种移除系统，其被设置为从组件的基板上移除涂层。第一能量源被设置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到组件上，以便第一电磁辐射流产生组件上的第一特性。第二能量源被设置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到组件上，以便第二电磁辐射流产生组件上的第二特性。传感器被设置为检测由第一电磁辐射流和第二电磁辐射流产生的第一特性和第二特性。控制器可操作地连接到第一能量源和第二能量源以及传感器。控制器被设置为从传感器接收检测到的第一特性和第二特性，以及从各自的第一能量源和第二能量源中接收相关的第一功率水平和第二功率水平。控制器被设置为响应于从传感器接收的第一特性和第二特性和从第一能量源和第二能量源接收的相关功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平传输到第一能量源和第二能量源中的至少一个。

一种从基板移除涂层的方法，包括将第一电磁辐射流从第一能量源引导到组件。第一能量源被以第一功率水平赋能，以便第一电磁辐射流使第一特性在组件上产生。第二电磁辐射流从处在第二功率水平第二能量源被引导到组件中，以便第二电磁辐射流使第二特性在组件上产生。第二能量源被以第二功率水平赋能，以便第二电磁辐射流使第二特性在组件上产生。组件的第一特性和第一能量源的相关第一功率水平被检测到。组件的第二特性和第二能量源的相关第二功率水平被检测到。被检测到的第一特性和第二特性以及相关的第一功率水平和第二功率水平中的至少一个被传输到控制器。基于检测到的第一特性和第二特性，在控制器中确定涂层是否被布置在组件的基板上。更新的功率水平被传输到第一能量源和第二能量源中的至少一个。

结合附图，根据执行本发明的最佳模式和其它实施方式中的一些的下列详细描述，本发明的上述技术特征和优点以及其它技术特征和优点很清晰明显。

本申请还涉及以下内容：

1)一种移除系统，其被配置为从组件的基板移除涂层，所述系统包括：

第一能量源，其被配置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第一电磁辐射流产生所述组件上的第一特性；

第二能量源，其被配置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流产生所述组件上的第二特性；

传感器，其被配置为检测由所述第一电磁辐射流和所述第二电磁辐射流产生的所述第一特性和所述第二特性；

控制器，其可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述传感器；

其中，所述控制器被配置为从所述传感器接收检测到的所述第一特性和所述第二特性，以及从分别的所述第一能量源和所述第二能量源接收相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平；以及

其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及从所述第一能量源和所述第二能量源接收的相关的所述功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。

2)如1)所述的移除系统，其中所述第一能量源被配置为将所述第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第一特性表示所述涂层从所述基板的移除。

3)如2)所述的移除系统，其中所述第二能量源被配置为将所述第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第二特性表示所述涂层是否存在于所述基板上。

4)如3)所述的移除系统，还包括功率源，该功率源可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源；

其中，所述控制器是闭环过程控制器，该闭环控制器配置为从所述传感器和所述功率源接收输入；以及