[发明专利]磁感应器件及制造方法

权利要求书

1.一种磁感应器件，其特征在于，所述磁感应器件包括：衬底、第一金属层以及第一保护层，

所述衬底的第一表面开设有至少一个第一凹槽，所述第一金属层设置于所述至少一个第一凹槽内，所述第一金属层的表面低于所述第一表面，所述第一金属层的表面与所述第一表面共同构成第一凹陷部，所述第一保护层的形状与所述第一凹陷部的形状相同且所述第一保护层覆盖所述第一凹陷部；

其中，所述第一保护层的厚度不超过相邻的第一金属层之间的间距的一半与所述第一凹陷部的凹陷深度之和，其中，在所述第一保护层的表面高于所述第一表面时，所述第一保护层的厚度为所述第一保护层的延伸长度。

2.根据权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：所述至少一个第一凹槽为螺旋形第一凹槽，所述第一金属层为与所述螺旋形第一凹槽匹配的螺旋形线圈，所述第一金属层的表面与所述第一表面共同构成螺旋形的第一凹陷部，所述第一保护层为螺旋形的第一保护层，且螺旋形的所述第一保护层覆盖螺旋形的所述第一凹陷部。

3.根据权利要求1或2所述的磁感应器件，其特征在于：所述第一保护层覆盖所述第一凹陷部且所述第一保护层的表面低于所述第一表面。

4.根据权利要求1或2所述的磁感应器件，其特征在于：所述第一保护层填充所述第一凹陷部。

5.根据权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：还包括第二金属层以及第二保护层，

所述衬底的第二表面开设有至少一个第二凹槽，所述第二金属层设置于所述至少一个第二凹槽内，所述第二金属层的表面低于所述第二表面，所述第二金属层的表面与所述第二表面共同构成第二凹陷部，所述第二保护层的形状与第二凹陷部的形状相同且所述第二保护层覆盖所述第二凹陷部。

6.根据权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：所述第一金属层与所述衬底之间设置有绝缘层。

7.根据权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：所述衬底为高阻硅或者玻璃。

8.根据权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：所述第一金属层为铜。

9.根据权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：所述第一保护层的厚度在3微米至6微米之间。

10.一种磁感应器件制造方法，用于制造如权利要求1所述的磁感应器件，其特征在于：

在衬底形成从所述衬底的表面延伸至所述衬底的内部的凹槽；

在所述衬底的表面以及所述凹槽内溅射形成种子层，在所述种子层使用金属材料进行电镀；

通过刻蚀去除所述衬底表面的金属材料；

对所述凹槽内的金属材料进行预定时间的过刻蚀，以使所述金属材料的表面低于所述衬底的表面；

在所述金属材料的表面进行表面处理，形成表面的保护层。