[发明专利]缺陷检查系统、膜制造装置以及缺陷检查方法

权利要求书

1.一种缺陷检查系统，其特征在于，具备：

光源，其向膜照射光；

摄像部，其按离散时间拍摄二维图像，其中，所述二维图像基于从所述光源向所述膜照射并透过所述膜后或在所述膜上反射后的所述光而形成；

输送部，其相对于所述光源以及所述摄像部沿着输送方向相对地输送所述膜；

图像处理部，其对由所述摄像部拍摄到的所述二维图像的图像数据进行处理；以及

解析部，其对由所述图像处理部处理后的所述图像数据进行解析，

所述图像处理部具有：

列分割处理部，其将所述二维图像处理成列分割图像的所述图像数据，其中，所述列分割图像通过将所述二维图像分割为沿着所述输送方向排列的多个列、并使由所述摄像部按所述离散时间拍摄到的所述二维图像各自中的相同位置的所述列依照时间序列的顺序排列而成；以及

增强处理部，其将由所述列分割处理部处理后的所述列分割图像处理成增强了亮度变化的缺陷增强处理图像的所述图像数据，

所述解析部具有：

缺陷位置确定部，其根据由所述增强处理部处理后的所述缺陷增强处理图像的所述图像数据，来确定所述膜上的缺陷的位置；以及

缺陷种类识别部，其根据由所述列分割处理部处理后的所述列分割图像的所述图像数据，来识别由所述缺陷位置确定部确定所述位置后的所述缺陷的种类。

2.根据权利要求1所述的缺陷检查系统，其中，

所述缺陷种类识别部通过在所述列分割图像的所述缺陷的位置处以亮度合计值、亮度平均值、亮度中值、亮度方差、亮度梯度方向、亮度梯度的大小、所述缺陷的面积、所述缺陷的周长、所述缺陷的圆形度、所述缺陷的费雷特直径以及所述缺陷的纵横比中的任一方为特征量的机械学习，来识别所述缺陷的种类。

3.根据权利要求1或2所述的缺陷检查系统，其中，

所述缺陷检查系统还具备遮光体，该遮光体位于所述光源与所述膜之间，对从所述光源向所述膜照射的所述光的一部分进行遮挡，

所述输送部相对于所述光源、所述遮光体以及所述摄像部沿着输送方向相对地输送所述膜。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的缺陷检查系统，其中，

所述摄像部具有：

光电转换元件；以及

光学构件，其使透过所述膜后或在所述膜上反射后的所述光在所述光电转换元件的表面成像，

所述光电转换元件以及所述图像处理部一体地安装于安装基板。

5.一种膜制造装置，其特征在于，

具备权利要求1至4中任一项所述的缺陷检查系统。

6.一种缺陷检查方法，其使用具备光源、摄像部、输送部、图像处理部以及解析部的缺陷检查系统，

所述缺陷检查方法包括：

从所述光源向膜照射光的工序；

由所述摄像部按离散时间拍摄二维图像的工序，其中，所述二维图像基于从所述光源向所述膜照射并透过所述膜后或在所述膜上反射后的所述光而形成；

由所述输送部相对于所述光源以及所述摄像部沿着输送方向相对地输送所述膜的工序；

由所述图像处理部对由所述摄像部拍摄到的所述二维图像的图像数据进行处理的工序；以及

由所述解析部对由所述图像处理部处理后的所述图像数据进行解析的工序，

所述缺陷检查方法的特征在于，

对所述图像数据进行处理的工序包括：

将所述二维图像处理成列分割图像的所述图像数据的工序，其中，所述列分割图像通过将所述二维图像分割为沿着所述输送方向排列的多个列、并使由所述摄像部按所述离散时间拍摄到的所述二维图像各自中的相同位置的所述列依照时间序列的顺序排列而成；以及

将所述列分割图像处理成增强了亮度变化的缺陷增强处理图像的所述图像数据的工序，

对所述图像数据进行解析的工序包括：

根据所述缺陷增强处理图像的所述图像数据来确定所述膜上的缺陷的位置的工序；以及

根据所述列分割图像的所述图像数据来识别根据所述缺陷增强处理图像的所述图像数据而确定所述位置后的所述缺陷的种类的工序。

7.根据权利要求6所述的缺陷检查方法，其中，

使用还具备位于所述光源与所述膜之间的遮光体的缺陷检查系统，

所述缺陷检查方法还包括由所述遮光体对从所述光源向所述膜照射的所述光的一部分进行遮挡的工序，

在沿着输送方向相对地输送所述膜的工序中，由所述输送部相对于所述光源、所述遮光体以及所述摄像部沿着输送方向相对地输送所述膜。