[发明专利]缺陷检查系统、膜制造装置以及缺陷检查方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于检查膜的缺陷的缺陷检查系统、膜制造装置以及缺陷检查方法。

背景技术

已知对偏振膜以及相位差膜等光学膜、电池的隔板所使用的层叠膜等的缺陷进行检测的缺陷检查系统。这种缺陷检查系统沿着输送方向输送膜，按离散时间拍摄膜的二维图像，基于所拍摄到的二维图像来进行缺陷检查。例如，专利文献1的系统将二维图像分割为沿着输送方向排列的多个列，将按离散时间拍摄到的二维图像的各图像中的相同位置的列依照时间序列的顺序排列而生成列分割图像。列分割图像被处理成增强了亮度变化的缺陷增强处理图像。根据缺陷增强处理图像，能容易地确定膜的缺陷的有无、位置。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4726983号说明书

发明所要解决的课题

然而，膜的缺陷存在异物、划痕以及气泡等种类。对于缺陷检查系统，希望不仅识别出缺陷的有无、位置，还识别出缺陷的种类。然而，在上述技术中，缺陷增强处理图像增强了亮度变化，因此难以通过缺陷增强处理图像来识别缺陷的种类，希望加以改善。

发明内容

于是，本发明的目的在于，提供能够容易地确定膜的缺陷的位置且能够更加容易地识别缺陷的种类的缺陷检查系统、膜制造装置以及缺陷检查方法。

用于解决课题的方案

本发明涉及一种缺陷检查系统，其具备：光源，其向膜照射光；摄像部，其按离散时间拍摄二维图像，其中，所述二维图像基于从光源向膜照射并透过膜后或在膜上反射后的光而形成；输送部，其相对于光源以及摄像部沿着输送方向相对地输送膜；图像处理部，其对由摄像部拍摄到的二维图像的图像数据进行处理；以及解析部，其对由图像处理部处理后的图像数据进行解析，图像处理部具有：列分割处理部，其将二维图像处理成列分割图像的图像数据，其中，列分割图像通过将二维图像分割为沿着输送方向排列的多个列、并使由摄像部按离散时间拍摄到的二维图像各自中的相同位置的列依照时间序列的顺序排列而成；以及增强处理部，其将由列分割处理部处理后的列分割图像处理成增强了亮度变化的缺陷增强处理图像的图像数据，解析部具有：缺陷位置确定部，其根据由增强处理部处理后的缺陷增强处理图像的图像数据，来确定膜上的缺陷的位置；以及缺陷种类识别部，其根据由列分割处理部处理后的列分割图像的图像数据，来识别由缺陷位置确定部确定位置后的缺陷的种类。

根据该结构，由缺陷检查系统的解析部的缺陷位置确定部根据由缺陷检查系统的图像处理部的增强处理部处理后的缺陷增强处理图像的图像数据来确定膜上的缺陷的位置，由解析部的缺陷种类识别部根据由图像处理部的列分割处理部处理后的列分割图像的图像数据来识别由缺陷位置确定部确定位置后的缺陷的种类。列分割图像的图像数据未增强亮度变化，因此容易识别缺陷的种类。因此，能够容易地确定膜的缺陷的位置，且能够更加容易地识别缺陷的种类。

在该情况下，优选的是，缺陷种类识别部通过在列分割图像的缺陷的位置处以亮度合计值、亮度平均值、亮度中值、亮度方差、亮度梯度方向、亮度梯度的大小、缺陷的面积、缺陷的周长、缺陷的圆形度、缺陷的费雷特直径以及缺陷的纵横比中的任一方为特征量的机械学习，来识别缺陷的种类。

根据该结构，由缺陷种类识别部通过在列分割图像的缺陷的位置处以亮度合计值等为特征量的机械学习来识别缺陷的种类。未增强亮度变化的列分割图像容易进行特征量的检测及基于检测出的特征量的机械学习。因此，能够以更高精度识别缺陷的种类。

另外，优选的是，缺陷检查系统还具备遮光体，该遮光体位于光源与膜之间，对从光源向膜照射的光的一部分进行遮挡，输送部相对于光源、遮光体以及摄像部沿着输送方向相对地输送膜。

根据该结构，由遮光体对从光源向膜照射的光的一部分进行遮挡，可通过缺陷的检测灵敏度高、能够检测微小的缺陷的暗视野法来检查膜的缺陷。缺陷位置确定部根据由增强处理部处理后的缺陷增强处理图像的图像数据来确定膜上的缺陷的位置，因此能够在暗视野法中进一步提高缺陷的检测灵敏度。另一方面，缺陷种类识别部根据未增强亮度变化的列分割图像的图像数据来识别缺陷的种类，因此能够更加容易识别缺陷的种类。

另外，优选的是，摄像部具有：光电转换元件；以及光学构件，其使透过膜后或在膜上反射后的光在光电转换元件的表面成像，光电转换元件以及图像处理部一体地安装于安装基板。