[发明专利]有机发光二极管显示基板的制备方法、显示基板及显示装置有效
申请号: | 201710387570.4 | 申请日: | 2017-05-26 |
公开(公告)号: | CN108933154B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 刘则 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 文洁 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光二极管 显示 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种有机发光二极管显示基板的制备方法,包括:
在衬底基板上依次形成辅助电极和具有至少一个过孔的绝缘层,在所述过孔中露出所述辅助电极的至少一部分;
在所述绝缘层上形成有机发光层;
向所述过孔中注入导电液体,所述导电液体固化后与所述辅助电极电连接;以及
在所述有机发光层上形成阴极层,所述阴极层通过所述过孔中固化的导电液体与所述辅助电极电连接;
所述有机发光层包括形成于过孔中的部分;
向所述过孔中注入导电液体包括:通过喷墨打印工艺向所述过孔中喷射导电液滴,以熔化和穿透过孔中的所述有机发光层;
所述导电液滴的温度在50℃-300℃之间。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述导电液滴的材料为合金。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述导电液滴的材料为焊料。
4.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,在所述衬底基板上形成导电层,所述辅助电极和所述导电层的图形通过一次构图工艺形成。
5.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,通过一次构图工艺形成所述辅助电极和栅线。
6.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,通过一次构图工艺形成所述辅助电极和数据线。
7.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,通过一次构图工艺形成辅助电极和像素电极。
8.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,所述绝缘层包括像素界定层,并且,通过一次构图工艺在所述像素界定层中形成用于限定像素单元的过孔和用于暴露所述辅助电极的所述过孔。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,用于限定像素单元的过孔和用于暴露所述辅助电极的所述过孔在衬底基板上的正投影不重叠。
10.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,所述绝缘层包括像素界定层和平坦化层,并且,所述过孔穿透所述像素界定层和平坦化层。
11.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,所述绝缘层包括像素界定层、平坦化层、钝化层和栅极绝缘层,所述过孔穿透所述像素界定层、平坦化层、钝化层和栅极绝缘层。
12.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,靠近显示基板的中心的所述过孔分布的密度大于靠近显示基板的边缘的所述过孔分布的密度。
13.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其中,所述辅助电极为条状,并平行于栅线或数据线。
14.一种采用权利要求1-13任一项所述的方法制备的有机发光二极管显示基板,包括:
补底基板;
在衬底基板上的辅助电极;
在辅助电极上的绝缘层;
在绝缘层上的有机发光层;以及
在有机发光层上的阴极,
其中,在绝缘层中具有至少一个用于连接辅助电极和阴极的过孔,所述过孔中具有导电元件,所述辅助电极和所述阴极通过所述导电元件电连接。
15.根据权利要求14所述的有机发光二极管显示基板,其中,所述有机发光层包括形成于过孔中的部分。
16.根据权利要求14所述的有机发光二极管显示基板,其中,所述辅助电极为条状,并平行于栅线或数据线。
17.一种显示装置,包括如权利要求14-16任一项所述的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的