[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201710395242.9 | 申请日： | 2017-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN107450276B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 桥本典夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
1.一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：
第1曝光部，其具有光调制元件阵列，向长条基板的第1面照射被所述光调制元件阵列调制后的图案光；
第1曝光台，其将所述长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；
第1相对移动单元，其使所述第1曝光部与所述第1曝光台在所述长条基板的长度方向上相对移动；
折返单元，其使所述长条基板的输送路径折返；
第2曝光部，其具有光调制元件阵列，向所述长条基板的第2面照射被所述光调制元件阵列调制后的图案光；
第2曝光台，其将所述长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；以及
第2相对移动单元，其使所述第2曝光部与第2曝光台在所述长条基板的长度方向上相对移动，
所述第1相对移动单元与所述第2相对移动单元分别使所述第1曝光台与所述第2曝光台同步地在沿着所述长条基板的长度方向的相反方向上移动，并且所述第1曝光部与所述第2曝光部对应于所述第1曝光台与所述第2曝光台的移动，分别对照射到所述长条基板的图案光进行调制。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1曝光部与所述第2曝光部分别朝下方照射所述图案光。
3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具有送出所述长条基板的基板供给单元，
所述基板供给单元与所述第1曝光台的移动同步地，对送出所述长条基板的速度进行调整。
4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具有卷绕所述长条基板的基板卷绕单元，
所述基板卷绕单元与所述第2曝光台的移动同步地，对卷绕所述长条基板的速度进行调整。
5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，
所述基板供给单元与所述基板卷绕单元设置于曝光装置的同一侧。
6.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1相对移动单元与所述第2相对移动单元设置于相同高度的基座部。
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