[发明专利]曝光装置有效
申请号: | 201710395242.9 | 申请日: | 2017-05-27 |
公开(公告)号: | CN107450276B | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 桥本典夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社ORC制作所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
本发明提供曝光装置,该曝光装置对长条基板高精度地测量基板的进给量,并且在确保了基板的平面性的状态下在基板的两面上描绘图案。曝光装置具有:第1曝光单元,其包含光调制元件阵列;第1基板保持单元,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;第1相对移动单元,其使第1曝光单元与第1基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动;折返单元,其使长条基板的输送路径折返;第2曝光单元,其包含光调制元件阵列;第2基板保持单元,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;以及第2相对移动单元,其使第2曝光单元与第2基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动。
技术领域
本发明涉及曝光装置,在从供给卷轴送出并卷绕到卷绕卷轴上的长条基板的输送过程中,曝光装置在该长条基板的两面上描绘图案。
背景技术
一般情况下,作为便携电话、移动设备等中使用的电子电路基板(印刷电路基板)的基底材料,例如,使用将厚度为0.1mm以下且长度为500mm以上(例如100m)的长条基板(感光性长条膜)加工成卷状而得的材料。近年来,期望直接曝光装置(无掩模曝光装置),该直接曝光装置针对这样的长条基板,不使用转印掩模而使描绘光直接照射到基板来描绘图案。
作为对长条基板描绘图案的直接曝光装置,例如已知有专利文献1那样的曝光装置,但在这样的曝光装置中,只能在长条基板的单面上曝光图案,需要将曝光结束的基板卷取下,并将该卷再设置于投入侧,再一次进行曝光工序,生产效率低。另一方面,为了使用直接曝光装置在长条基板的两面形成电子电路,研究了如专利文献2中提及的那样对基板的两面照射描绘光来形成图案的曝光装置。
专利文献1:日本特开2006-102991号公报
专利文献2:日本特开2005-121959号公报
专利文献2的曝光装置在向基板的两面照射描绘光这样的构造方面,存在无法设置覆盖曝光范围的尺寸的曝光台的问题。曝光台具有高精度地测量基板的进给量并且提高基板的平面性这样的作用,如果没有曝光台,则难以在基板上描绘高精度的图案。
发明内容
本发明基于以上的课题,目的在于得到一种直接曝光装置,该直接曝光装置对长条基板高精度地测量基板的进给量,并且在确保基板的平面性的状态下在基板的两面描绘图案。
曝光装置具有:第1曝光部,其具有光调制元件阵列,向长条基板的第1面照射被光调制元件阵列调制后的图案光;第1曝光台,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;第1相对移动单元,其使第1曝光部与第1曝光台在长条基板的长度方向上相对移动;折返单元,其使长条基板的输送路径折返;第2曝光部,其具有光调制元件阵列,向长条基板的第2面照射被光调制元件阵列调制后的图案光;第2曝光台,其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状;以及第2相对移动单元,其使第2曝光部与第2曝光台在长条基板的长度方向上相对移动。通过采用这样的曝光装置,能够使用曝光台对长条基板的两面进行曝光。此外,由于第1曝光部与第2曝光部分别朝下方照射图案光,因此,能够以相同条件在长条基板的两面曝光图案。
此外,第1相对移动单元与第2相对移动单元分别使第1曝光台与第2曝光台同步地在沿着长条基板的长度方向的相反方向上移动,并且,第1曝光部与第2曝光部对应于第1曝光台与第2曝光台的移动,分别对照射到长条基板的图案光进行调制。而且,该曝光装置具有送出长条基板的基板供给单元,基板供给单元与第1曝光台的移动同步地对送出长条基板的速度进行调整,同样地,该曝光装置具有卷绕长条基板的基板卷绕单元,基板卷绕单元与第2曝光台的移动同步地对卷绕长条基板的速度进行调整。由此,由于即使不设置基板的缓冲部也能够输送长条基板,因此,能够减小卷端部附近等、无法在长条基板的两面曝光图案的无用的区域。
此外,由于基板供给单元与基板卷绕单元设置于曝光装置的同一侧,因此,换卷等换产调整作业的效率提高。
此外,由于第1相对移动单元与第2相对移动单元设置在相同的高度,因此,能够抑制装置的高度,能够实现紧凑的曝光装置。
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