[发明专利]一种蟾毒配基纳米晶体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710399963.7 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN107233348B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 杨建宏;左文宝;唐星;侯延辉 申请(专利权)人: 宁夏医科大学
主分类号: A61K31/585 分类号: A61K31/585;A61K47/54;A61K47/61;A61K9/14;A61K9/19;A61K47/69;A61P35/00;A61P37/04
代理公司: 广州市一新专利商标事务所有限公司 44220 代理人: 张芳
地址: 750004 宁夏回族*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要:
搜索关键词: 一种 蟾毒配基 纳米 晶体 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种蟾毒配基纳米晶体,其特征在于该蟾毒配基纳米晶体是将蟾毒配基、电荷稳定剂、空间稳定剂和纯化水混合后经纳米化处理后所得,其载药量为20%~90%,粒径分布范围为30~1000 nm;

所述蟾毒配基是由4~15%蟾毒灵、6~30%华蟾毒配基和10~53%脂蟾毒配基组成的无定形态或微晶态的物质,总纯度为20~98%,其在晶体中的总浓度为1mg/mL~500 mg/mL;

所述电荷稳定剂为十二烷基硫酸钠、泊洛沙姆188、泊洛沙姆407、大豆卵磷脂、海藻糖和壳聚糖中的一种或几种,其在晶体中的质量体积浓度为0.01%~2.0%;

所述空间稳定剂为羟丙基甲基纤维素 E5、羧甲基纤维素钠、交联羧甲基纤维素钠、聚维酮 K30、羟丙基纤维素和交联羧甲基淀粉钠中的一种或几种,其在晶体中的质量体积浓度为0.01%~5.0%。

2.按照权利要求1所述的蟾毒配基纳米晶体,其特征在于所述电荷稳定剂的质量体积浓度为0.10%~0.22%;空间稳定剂的质量体积浓度为0.10%~0.30%。

3.按照权利要求1所述的蟾毒配基纳米晶体,其特征在于所述蟾毒配基纳米晶体的粒径范围为30~200nm,电位值范围为-58~30 mV。

4.按照权利要求1所述的蟾毒配基纳米晶体,其特征在于,所述纳米化处理是指采用湿法研磨法或者高压均质法。

5.包含按照权利要求1至4任意一项所述的蟾毒配基纳米晶体的组合物,其特征在于,所述蟾毒配基纳米晶体经表面修饰或者包衣、干燥处理后,与适宜药用辅料混制成药剂学上可接受的各种剂型。

6.按照权利要求5所述的蟾毒配基纳米晶体的组合物,其特征在于,所述表面装饰是指利用α-生育酚琥珀酸聚乙二醇酯或壳聚糖以物理和/或化学的方式改变蟾毒配基纳米晶体的表面结构和状态。

7.按照权利要求5所述的蟾毒配基纳米晶体的组合物,其特征在于,所述剂型为注射剂、片剂、口服液、微丸或者胶囊剂。

8.一种如权利要求1所述的蟾毒配基纳米晶体的制备方法,其特征在于其工艺步骤为:

1)将电荷稳定剂、空间稳定剂和纯化水充分混合,形成稳定剂溶液A;

2)将蟾毒配基加入到上述稳定剂溶液A中,通过磁力搅拌使药物混悬于其中,得蟾毒配基粗混悬液B;

3)将上述所得蟾毒配基粗混悬液B转移至纳米研磨机/高压均质机中进行研磨/均质而得到蟾毒配基纳米晶体。

9.按照权利要求8所述的蟾毒配基纳米晶体的制备方法,其特征在于,所述纳米研磨机为循环式纳米研磨机,所用研磨珠的粒度为0.2~0.8mm,材质为玻璃、钇稳定的氧化锆或聚苯乙烯衍生物的聚合物。

10.按照权利要求8所述的蟾毒配基纳米晶体的制备方法,其特征在于,所述研磨过程中,研磨时间控制在15~60min,研磨转速控制在1000~6000rpm。

11.按照权利要求8所述的蟾毒配基纳米晶体制备方法,其特征在于,所述高压均质机为超高压纳米均质机,均质压力为50~200 M Pa、均质温度为5~60℃,均质次数为2~20次。

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