[发明专利]确定方法、信息处理装置、曝光装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种确定方法，确定曝光装置中的曝光条件，所述曝光装置通过利用投影光学系统将原版的图案投影到基板而对所述基板进行曝光，所述确定方法的特征在于，包括：

设定工序，将(r，θ)设为极坐标、将n设为自然数、将作为r的函数的f(r)设为所述投影光学系统的球面像差分量，设定所述投影光学系统的波面像差的多个分量中的通过f(r)·cos(4nθ)及f(r)·sin(4nθ)表现的分量；以及

确定工序，确定曝光条件，以使所述分量所致的作为聚焦位置的变化量的聚焦灵敏度收敛于目标范围，

所述确定工序包括计算所述聚焦灵敏度的工序。

2.根据权利要求1所述的确定方法，其特征在于，

在所述确定工序中，确定所述曝光条件，以使所述分量中的n＝1的情况下的分量所致的聚焦灵敏度收敛于所述目标范围。

3.根据权利要求1所述的确定方法，其特征在于，

在所述确定工序中，确定所述投影光学系统的数值孔径作为所述曝光条件。

4.根据权利要求1所述的确定方法，其特征在于，

在所述确定工序中，确定用于所述曝光的光的波长作为所述曝光条件。

5.根据权利要求1所述的确定方法，其特征在于，

在所述确定工序中，确定所述投影光学系统的数值孔径以及用于所述曝光的光的波长作为所述曝光条件。

6.一种确定方法，确定曝光装置中的曝光条件，所述曝光装置通过利用投影光学系统将原版的图案投影到基板而对所述基板进行曝光，所述确定方法的特征在于，包括：

设定工序，将(r，θ)设为极坐标、将n设为自然数、将作为r的函数的f(r)设为所述投影光学系统的球面像差分量，设定所述投影光学系统的波面像差的多个分量中的通过f(r)·cos(4nθ)及f(r)·sin(4nθ)表现的分量；以及

确定工序，确定曝光条件，以使所述分量所致的作为聚焦位置的变化量的聚焦灵敏度收敛于目标范围，

在所述设定工序中，将所述投影光学系统的波面像差的多个分量中的通过f(r)·cos(4nθ)及f(r)·sin(4nθ)表现的分量以外的分量设定为0。

7.一种确定方法，确定曝光装置中的曝光条件，所述曝光装置通过利用投影光学系统将原版的图案投影到基板而对所述基板进行曝光，所述确定方法的特征在于，包括：

设定工序，将(r，θ)设为极坐标、将n设为自然数、将作为r的函数的f(r)设为所述投影光学系统的球面像差分量，设定所述投影光学系统的波面像差的多个分量中的通过f(r)·cos(4nθ)及f(r)·sin(4nθ)表现的分量；以及

确定工序，确定曝光条件，以使所述分量所致的作为聚焦位置的变化量的聚焦灵敏度收敛于目标范围，

所述确定工序包括：

第一工序，针对多个曝光条件候补的各个曝光条件候补，计算作为所述投影光学系统的散焦量和通过所述投影光学系统形成的像的特性的关系的散焦特性；

第二工序，根据在所述第一工序中计算出的针对所述多个曝光条件候补的各个曝光条件候补的所述散焦特性，针对所述多个曝光条件候补的各个曝光条件候补计算所述聚焦灵敏度；以及

第三工序，根据在所述第二工序中计算出的针对所述多个曝光条件候补的各个曝光条件候补的所述聚焦灵敏度，确定所述曝光条件。

8.根据权利要求7所述的确定方法，其特征在于，

在所述确定工序中，在针对所述多个曝光条件候补中的至少两个曝光条件候补计算出的所述聚焦灵敏度收敛于所述目标范围的情况下，根据所述至少两个曝光条件候补下的工艺余裕，将所述至少两个曝光条件候补中的一个确定为曝光条件。

9.根据权利要求7所述的确定方法，其特征在于，

在所述确定工序中，在针对所述多个曝光条件候补中的至少两个曝光条件候补计算出的所述聚焦灵敏度收敛于所述目标范围的情况下，根据所述至少两个曝光条件候补下的焦点深度，将所述至少两个曝光条件候补中的一个确定为曝光条件。