[发明专利]影像亮度重配模块及影像亮度重配方法

说明书

本发明提供了一种影像亮度重配模块，其包括一开关器、一第一透镜、一数字微镜装置、一第二透镜以及一第三透镜。开关器选择性地允许具一光强度分布的一第一图像通过，而第一图像由一照明光束通过一光罩所形成。第一图像藉由通过第一透镜而被调整尺寸以形成一第二图像，成像于数字微镜装置的表面，并藉由数字微镜装置形成具一重配光强度分布的一第三图像。第三图像经数字微镜装置输出至第二透镜，并藉由通过第二透镜而被调整尺寸以形成一第四图像，以及第四图像藉由通过第三透镜而被调整尺寸以形成一第五图像并输出至影像亮度重配模块外。

技术领域

本发明关于一种影像亮度重配模块及影像亮度重配方法，尤指一种能排除元件布局图案(layout)中的微影热点(lithography hotspot)的影像亮度重配模块及影像亮度重配方法。

背景技术

一般半导体元件须经由繁复的半导体制程所完成，其中芯片上的各种电路布局则需以复数道微影制程加以定义形成。随着设计者与制造商不断地增加单位面积电路元件的数量以及微缩电路元件的尺寸，基板上所制作出的电路元件图形越来越小且彼此越来越接近。目前微影制程已进展至微微影(micro-lithography)制程，其中光罩上开口的最小尺寸已微缩至约光源波长十倍的大小，而电路元件特征尺寸的缩减使得要在基板上制作出原始电路布局图的困难度增加。造成上述问题的部分原因是光的绕射现象在微影制程期间造成缺陷，使得所欲形成的影像未能准确地成像在基板上，进而在最后的元件结构中产生瑕疵。此外，微影制程中的曝光基本上是以一次曝光(singleexposure)来进行，且光罩中不同的图案于曝光时的曝光敏感度彼此之间并不相同，例如不同密度与不同线宽的图案的制程宽裕度不同，因此在进行微影制程时，须花费相当大的心力在各图案彼此之间取得曝光剂量(exposure dose)的平衡点。

目前业界已利用解析度增强技术(resolution enhancement techniques,RETs)来改善微影制程的图像解析度，例如，光学近接修正(optical proximitycorrection,OPC)，其藉由调整穿过光罩的光的振幅来修改用来产生光罩的设计布局图形数据。举例言之，布局图形的边缘常使用此技术来进行调整，其根据基板上某特定点预期受到额外的曝光或曝光不足而增大或缩小某些几何元件的部位，例如改变某个部位的临界尺度(critical dimension,CD)。然而不足的是，尽管采用了上述解析度增强技术，某些布局区域仍存在着可成像性的问题，这类区域在业界惯称为微影热点(lithography hotspots)。微影热点的问题只能藉由变更原始布局设计来改变最终成像的图形轮廓来修正。此布局图形的修改流程可以在制造商端或者是设计者端进行，然而其整个修改流程十分废时且所费不赀。是以，现今业界希望开发出能更有效率排除微影热点以及改善微影精确度的新技术。

发明内容

本发明提供了一种影像亮度重配模块及影像亮度重配方法，以排除元件布局图案中的微影热点。

本发明的实施例提供了一种影像亮度重配模块，其包括一开关器、一第一透镜、一数字微镜装置、一第二透镜以及一第三透镜。开关器选择性地允许具一光强度分布的一第一图像通过，其中具有该光强度分布的该第一图像由一照明光束通过一光罩所形成。第一图像藉由通过第一透镜而被调整尺寸以形成一第二图像，第二图像成像于数字微镜装置的表面，并藉由数字微镜装置形成具一重配光强度分布的一第三图像。第三图像经数字微镜装置输出至第二透镜，并藉由通过第二透镜而被调整尺寸以形成一第四图像，以及第四图像藉由通过第三透镜而被调整尺寸以形成一第五图像并输出至影像亮度重配模块外。

本发明的实施例另提供了一种微影系统，其包括一光源、一聚光镜、一成像部、一物镜以及上述的影像亮度重配模块。光源用以提供一照明光束，而聚光镜用以汇聚照明光束。成像部用以承载一光罩，其中光罩用以接收由聚光镜所汇聚的照明光束，且照明光束在通过光罩后会形成具一光强度分布的一第一图像。物镜用以接收第一图像，其中物镜调整并输出第一图像，且第一图像经物镜传递至影像亮度重配模块，再由影像亮度重配模块输出第五图像而投影至一基底上，且影像亮度重配模块设置于物镜与基底之间。