[发明专利]掩膜板及其制作方法

说明书

本发明涉及一种掩膜板及其制作方法。上述掩膜板包括：掩膜板基体，掩膜板基体具有AA区以及非AA区，且掩膜板基体包括相对的第一表面和第二表面，AA区具有贯穿掩膜板基体的第一开口，非AA区具有位于第一表面上的第二开口；以及第一电铸层，位于掩膜板基体的第一表面上，且第一电铸层露出第一开口，并覆盖第二开口。上述掩膜板中，由于掩膜板基体的AA区与非AA区分别具有第一开口和第二开口，且第一电铸层露出第一开口，并覆盖第二开口，不会影响蒸镀效果。同时，非AA区与AA区均设置了开口，能够避免在张网过程中掩膜板上AA区与非AA区的过渡区域产生突变，有利于AA区的稳定，从而有利于提高图案蒸镀的效果，提升产品的良率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板及其制作方法。

背景技术

平板显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平板显示器件主要包括有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix organic lightemitting diode，AMOLED)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。平板显示器件的制作涉及到在基底上形成薄膜图案的过程，即利用具有图案的蒸镀掩膜板掩膜，并通过真空蒸镀方式在待蒸镀基板上形成所需要的图案。

传统的掩膜板包括AA区(Ative Area，有效显示区域)和非AA区，只在AA区设置有蒸镀开口，然而，这种传统的掩膜板的图案蒸镀效果较差，使得产品良率较低。

发明内容

基于此，有必要针对传统的掩膜板的产品良率较低的问题，提供一种能够提升产品良率的掩膜板及其制作方法。

一种掩膜板，包括：

掩膜板基体，所述掩膜板基体具有AA区以及非AA区，且所述掩膜板基体包括相对的第一表面和第二表面，所述AA区具有贯穿所述掩膜板基体的第一开口，所述非AA区具有位于所述第一表面上的第二开口；

以及第一电铸层，位于所述掩膜板基体的第一表面上，且所述第一电铸层露出所述第一开口，并覆盖所述第二开口。

上述掩膜板中，由于掩膜板基体的AA区与非AA区分别具有第一开口和第二开口，且第一电铸层露出第一开口，并覆盖第二开口，不会影响蒸镀效果。同时，非AA区与AA区均设置了开口，能够避免在张网过程中掩膜板上AA区与非AA区的过渡区域产生突变，有利于AA区的稳定，从而有利于提高图案蒸镀的效果，提升产品的良率。

此外，第一电铸层位于掩膜板基体的第一表面上，能够保证掩膜板的表面光滑，有利于检测设备对掩膜板的检测。

在其中一个实施例中，所述第一电铸层的厚度为1μm～5μm。

在其中一个实施例中，所述掩膜板还包括位于所述掩膜板基体的第二表面上的第二电铸层，所述第二电铸层露出所述第一开口。

在其中一个实施例中，所述第二电铸层的厚度为1μm～5μm。

此外，还提供一种掩膜板的制作方法，包括以下步骤：

提供掩膜板基体，所述掩膜板基体具有AA区以及非AA区，且所述掩膜板基体包括相对的第一表面和第二表面；

在所述AA区形成贯穿所述掩膜板基体的第一开口，并在所述非AA区的所述第一表面上形成第二开口；

在所述第一开口处填充第一芯模，且使所述第一芯模突出于所述第一表面；在所述第二开口处填充第二芯模，且使所述第二芯模的外表面与所述第一表面平齐；

在所述第一表面上形成第一电铸层，并使所述第一芯模突出于所述第一电铸层，且所述第一电铸层覆盖所述第二芯模；

以及在所述第一表面上形成第一电铸层之后去除所述第一芯模，得到掩膜板。