[发明专利]曝光装置、器件制造系统及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，在具有挠性的长条的基板上投影曝光出光罩图案，其具有：

光罩保持筒，其设置成能够绕第1轴旋转，并沿着相对于所述第1轴以一定的曲率半径而成的圆筒状的图案面保持所述光罩图案；

基板支承筒，其设置成能够绕与所述第1轴平行的第2轴旋转，通过相对于所述第2轴以一定的曲率半径而成的圆筒状的支承面的一部分支承所述基板，并且使所述基板沿长条的方向移动，

所述曝光装置的特征在于，还设有：

投影光学系统，其具有部分光学系统和导光光学系统，该部分光学系统入射来自被保持在所述光罩保持筒上的所述光罩图案的第1投影光，并在规定的中间像面上形成所述光罩图案的中间像，该导光光学系统将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面，并将通过了所述中间像面后的所述第1投影光作为第2投影光而再次引导至所述部分光学系统，通过入射所述第2投影光的所述部分光学系统将所述中间像再次成像而得到的投影像投影到通过所述基板支承筒支承的所述基板上；以及

光量减少部，其为了将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，使通过所述第2投影光形成的所述投影像的成像位置与通过所述第1投影光的一部分泄漏光而形成的不良像的成像位置不同。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述部分光学系统包含：供所述第1投影光及所述第2投影光入射的透镜部件、和将通过了所述透镜部件的所述第1投影光及所述第2投影光反射的反射光学部件，

来自所述光罩图案的所述第1投影光入射至所述透镜部件，由所述反射光学部件反射后，从所述透镜部件射出，并到达所述中间像面，

来自所述中间像面的所述第2投影光入射到所述透镜部件，由所述反射光学部件反射后，从所述透镜部件射出，并到达所述基板上。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，

所述光量减少部构成为所述导光光学系统，

所述光量减少部包含：

第1偏振光分束器，该第1偏振光分束器使来自所述光罩图案的所述第1投影光反射而入射至所述透镜部件，且使来自所述中间像面的所述第2投影光透过而入射至所述透镜部件；

波片，该波片使从所述第1偏振光分束器射出的所述第1投影光及所述第2投影光偏振；

第2偏振光分束器，该第2偏振光分束器使从所述透镜部件射出并通过了所述波片的所述第1投影光透过而入射至所述中间像面，且使从所述透镜部件射出并通过了所述波片的所述第2投影光反射而朝向所述基板上；

第1光学部件，该第1光学部件使透过了所述第2偏振光分束器的所述第1投影光入射至所述中间像面；以及

第2光学部件，该第2光学部件使来自所述中间像面的所述第2投影光入射至所述第1偏振光分束器。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，

所述光量减少部包含第1遮光板，该第1遮光板设于所述第2偏振光分束器与所述基板之间，

所述光量减少部使通过由所述第2偏振光分束器反射的所述第2投影光而形成在所述基板上的所述投影像的成像位置与所述不良像的成像位置在沿着所述基板的表面的方向上不同，所述不良像是通过不从所述第2偏振光分束器透过而由所述第2偏振光分束器反射的所述第1投影光的一部分泄漏光形成在所述基板上的像，

所述第1遮光板设于将从所述第2偏振光分束器朝向所述基板的所述泄漏光遮挡的位置。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，

所述光量减少部还包含第2遮光板，该第2遮光板遮挡从所述第1偏振光分束器朝向所述第2偏振光分束器的所述泄漏光。

6.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，

所述光量减少部使通过由所述第2偏振光分束器反射的所述第2投影光而形成在所述基板上的所述投影像的成像位置与所述不良像的成像位置在焦点深度的方向上不同，所述不良像是通过不从所述第2偏振光分束器透过而由所述第2偏振光分束器反射的所述第1投影光的一部分泄漏光所形成的像。