[发明专利]曝光装置、器件制造系统及器件制造方法

说明书

具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光(EL2b)再成像并在基板(P)上形成投影像。

本发明申请是国际申请日为2013年11月29日、国际申请号为PCT/JP2013/082185、进入中国国家阶段的国家申请号为201380066736.2、发明名称为“基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法”的发明申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法。

背景技术

以往，作为基板处理装置，已知在光罩与板件(基板)之间配置有投影光学系统的曝光装置(例如，参照专利文献1)。该投影光学系统包含透镜组、平面反射镜、两个偏振光分束器、两个反射镜、λ/4波片及视场光阑而构成。在该曝光装置中，经由光罩而照射至投影光学系统的S偏振光的投影光由一方的偏振光分束器反射。被反射的S偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为圆偏振光。圆偏振光的投影光通过透镜组而反射至平面反射镜。被反射的圆偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为P偏振光。P偏振光的投影光从另一方的偏振光分束器透过，被一方的反射镜反射。被一方的反射镜反射的P偏振光的投影光在视场光阑中形成中间像。从视场光阑通过的P偏振光的投影光被另一方的反射镜反射，再次入射至一方的偏振光分束器。P偏振光的投影光从一方的偏振光分束器透过。透过后的P偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为圆偏振光。圆偏振光的投影光从透镜组通过，并被平面反射镜反射。被反射的圆偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为S偏振光。S偏振光的投影光被另一方的偏振光分束器反射而到达板件上。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平8-64501号公报

发明内容

在此，偏振光分束器中反射及透过的投影光的一部分成为泄漏光。即，在偏振光分束器中反射的投影光的一部分分离，分离的投影光的一部分成为泄漏光而从偏振光分束器透过，或在偏振光分束器中透过的投影光的一部分分离，分离的投影光的一部分成为泄漏光，由偏振光分束器反射。在这种情况下，会有泄漏光在基板上成像，从而在基板上形成不良像的可能性。在这种情况下，在基板上，通过投影光而形成投影像，通过泄漏光而形成不良像，所以会有成为双重曝光的可能性。

本发明的方案是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供一种基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法，能够降低泄漏光对形成于基板上的投影像的影响，而将投影像适当地投影在基板上。

根据本发明的第1方式，提供一种基板处理装置，具有：投影光学系统，其通过来自光罩部件的图案的第1投影光而在规定的中间像面上形成所述图案的中间像，以使从所述中间像面向规定的基板行进的第2投影光再次从所述投影光学系统通过的方式折返，从而在所述基板上形成所述中间像再成像的投影像；以及光量减少部，其将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，所述投影光学系统具有：入射来自所述图案的所述第1投影光而形成所述中间像的部分光学系统；以及导光光学系统，其将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面，并将来自所述中间像面的所述第2投影光再次引导至所述部分光学系统，所述部分光学系统使来自所述中间像面的所述第2投影光再成像，并在所述基板上形成所述投影像。