[发明专利]一种冗余金属的填充方法及系统有效

专利信息
申请号: 201710422995.4 申请日: 2017-06-07
公开(公告)号: CN109002566B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 曹鹤;陈岚;孙艳 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 党丽;王宝筠
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 冗余 金属 填充 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种冗余金属的填充方法,其特征在于,包括:

在版图中确定待填充区域,所述待填充区域为封闭的多边形;

以待填充区域的各条边为界限,将基本填充单元依次相接进行排布,直到排满所述待填充区域,以获得填充后的版图,所述基本填充单元包括冗余填充区域和所述冗余填充区域外的间隔区域;

对所述填充后的版图进行网格划分,并获得各网格的网格密度;

获得网格密度超过预设阈值的过填充网格,并在预设的第二尺寸范围内,缩小所述过填充网格内的基本填充单元的冗余填充区域的尺寸,并计算所述过填充网格的网格密度,直到所述过填充网格的网格密度低于预设阈值。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在版图中确定待填充区域,包括:

获得冗余填充的临界间距尺寸d;

将版图内的图形的边界外扩d/2,获得外扩区域;

将所述版图的外边界布尔运算减去外扩区域,获得待填充区域。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述临界间距尺寸d的确定方法包括:

设计测试版图,所述测试版图被划分为网格矩阵,网格内的特征参数在行、列方向上变化,所述特征参数包括线宽和间距;

对所述测试版图进行CMP模拟,从模拟结果中确定出产生缺陷的临界间距尺寸d。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,以待填充区域的各条边为界限,将基本填充单元依次相接进行排布,直到排满所述待填充区域,包括:

以待填充区域的各条边为界限,沿第一方向将基本填充单元依次相接进行排布,直到排满所述待填充区域,第一方向为所述版图的一个水平方向或一个垂直方向。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,以待填充区域的各条边为界限,沿第一方向将基本填充单元依次相接进行排布,直到排满所述待填充区域,包括:

S201,从所述待填充区域中选择不在第一方向上的一条边作为填充起始边,并以所述填充起始边的一个端点作为起始点;

S202,以起始点开始并沿所述第一方向进行行填充,所述行填充包括:在所述待填充区域中依次相接放入基本填充单元,若放入的基本填充单元与所述待填充区域的交集为基本填充单元本身时,放入的基本填充单元为有效填充单元,当填入的基本填充单元与待填充区域的交集是部分基本填充单元时,结束所述行填充,获得填充行;

S203,以所述填充行与所述填充起始边的交点为新的起始点,若所述填充起始边的另一个端点到所述填充行的距离大于基本填充单元的高度,则返回S202;否则,进入S204;

S204,从待填充区域的未填充部分中选择不在第一方向上的一条边作为填充起始边,并以所述填充起始边的一个端点作为起始点,而后,返回S202。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,S202中还包括:

当填入的基本填充单元与待填充区域的交集是部分基本填充单元且下一个填入的基本填充单元与待填充区域的交集仍为部分基本填充单元时,在预设的第一尺寸范围内,缩小基本填充单元的尺寸,以缩小尺寸后的基本填充单元继续进行行填充。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,还包括:

所述过填充网格内的基本填充单元的冗余填充区域的尺寸缩小到预设的第二尺寸范围内的最小值时,若所述过填充网格的网格密度仍大于预设阈值,则将所述过填充网格内的部分基本填充单元删除,直到所述网格的网格密度低于预设阈值。

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