[发明专利]金属网格片及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种金属网格片及其制作方法。

背景技术

触摸屏作为一种简单的人机交互方式而广泛的应用于各种电子设备中，如手机，IPAD 等。特别是电容式触摸屏，其在绝缘材料上下表面分别贴上一层金属导电物质，当有导电物体(手指) 触碰时，人体的电流感应会进行工作，使得表面触电处的表面电容改变，因此可以计测出触摸点的位置，并且由于电容式触摸屏反应灵敏而受到越来越多人的青睐。

但是，目前的金属网格片都是采用同一种材料制成的，性能较单一，在方阻、透过率、消光等各方面无法做到面面俱到。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种金属网格片及其制作方法。

为了解决上述技术问题，本发明采用的一种技术方案是：一种金属网格片，包括具有多条纵横交错并相连通的网格槽的透明基材、填设在所述网格槽内与所述透明基材构成一个整体的金属网格层，所述金属网格层包含有多层导电膜层，所述导电膜层的材料为金属、金属氧化物或是合金。

在某些实施方式中，所述导电膜层包含位于底部的铜膜层、镀设于所述铜膜层上的氧化铜膜层。

在某些实施方式中，所述导电膜层包含位于底部的铜膜层、镀设于所述铜膜层上的不锈钢膜层、镀设于所述不锈钢膜层上的硅膜层。

在某些实施方式中，所述网格槽的横截面呈半圆形、三角形或梯形。

本发明要解决的又一技术问题是提供一种金属网格片的制作方法。

为了解决上述技术问题，本发明采用的一种技术方案是：一种金属网格片的制作方法，包含以下步骤：

步骤一，在透明基材上设置纵横交错相连通的网格槽；

步骤二，采用金属、金属氧化物或是合金在所述网格槽内蒸镀或者磁控溅射一层或多层导电膜层；

步骤三，将所述透明基材的镀膜表面采用打磨制具进行打磨处理，网格槽内的导电膜层接触不到打磨制具，会留在网格槽内形成金属网格层，从而得到金属网格片。

在某些实施方式中，所述基材为光学级塑料或者玻璃，其厚度为115um-135um。

在某些实施方式中，所述网格槽是通过UV转印、纳米压印或是激光直写成形的。

在某些实施方式中，所述打磨制具为柔性毛刷或布辊，采用中心轴旋转的方式进行反复地往复运动接触打磨即可。主材料用卷对卷或片式进行操作。整个镀膜的金属层会被打磨掉，网格槽内的导电膜层接触不到打磨制具，会留在网格槽内。

在某些实施方式中，在打磨过程中添加有用于加速打磨的化学药剂。

在某些实施方式中，所述网格槽的槽深为0.5µm -5µm，所述网格槽为槽宽为1µm-10µm。

本发明的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。

由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：能据根据客户的需要，选择多种金属、金属氧化物或是合金材料依次在网格槽内采用蒸发镀膜或磁控溅射金属的工艺加工制作金属网格层，打磨后便得到满足相应需求的金属网格片，拥有多种选择方式满足客户更多需求。

附图说明

附图1为透明基材俯视图；

附图2为附图1的A-A剖面图（网格槽呈半椭圆形）；

附图3为附图1的A-A剖面图（网格槽呈方形）；

附图4为附图1的A-A剖面图（网格槽呈三角形）；

附图5为附图1的A-A剖面图（网格槽呈倒梯形）；

附图6为镀有金属网格层的金属网格片打磨前剖面示意图；

附图7为镀有金属网格层的金属网格片打磨后剖面示意图；

其中：1、透明基材；2、网格槽；3、金属网格层。

具体实施方式

如各附图所示，一种金属网格片的制作方法，包含以下步骤：

步骤一，在透明基材1上设置纵横交错相连通的网格槽2；

步骤二，采用金属、金属氧化物或是合金在网格槽2内蒸镀或者磁控溅射一层或多层导电膜层；

步骤三，将透明基材1的镀膜表面采用打磨制具进行打磨处理，网格槽2内的导电膜层接触不到打磨制具，会留在网格槽2内形成金属网格层3，从而得到金属网格片。