[发明专利]加强构造体、真空腔室和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种加强构造体，其为了加强用于对基板实施预定的处理的真空腔室的盖体而设置于所述盖体的上表面，通过组合多个梁构件而成，其特征在于，

该加强构造体具有：

环状部，其是梁构件呈环状形成于所述盖体的上表面的中央部而成的；

放射状部，其以多个梁构件从所述环状部呈放射状延伸的方式形成，

所述真空腔室呈长方体状，所述盖体的上表面呈矩形形状，所述环状部包括矩形形状的框体，

所述放射状部具有从所述环状部的各边沿着与所述环状部的各边正交的方向延伸的梁构件和从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件。

2.根据权利要求1所述的加强构造体，其特征在于，

从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件沿着所述盖体的上表面的对角线方向延伸。

3.根据权利要求1所述的加强构造体，其特征在于，

所述盖体的呈矩形形状的所述上表面包括一对第1边和一对第2边，

所述加强构造体具有与所述盖体的所述矩形形状的上表面的一对第1边平行地设置的两根第1梁构件和与一对第2边平行地设置的两根第2梁构件，所述第1梁构件和所述第2梁构件配置成井字状，所述第1梁构件和所述第2梁构件的中央部构成所述环状部，所述第1梁构件和所述第2梁构件的位于所述中央部的两侧的端部构成所述放射状部的梁构件的一部分。

4.根据权利要求3所述的加强构造体，其特征在于，

所述放射状部还具有从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件。

5.根据权利要求4所述的加强构造体，其特征在于，

从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件沿着所述盖体的上表面的对角线方向延伸。

6.根据权利要求3～5中任一项所述的加强构造体，其特征在于，

所述第1梁构件和所述第2梁构件以将所述盖体的上表面分割成9部分的方式设置。

7.根据权利要求1～5中任一项所述的加强构造体，其特征在于，

在构成所述放射状部的梁构件中的、相邻的梁构件彼此之间的区间的至少一部分区间以将所述相邻的梁构件连结的方式配置有板状构件。

8.一种加强构造体，其为了加强用于对基板实施预定的处理的真空腔室的盖体而设置于所述盖体的上表面，通过组合多个梁构件而成，其特征在于，

该加强构造体具有：

环状部，其是梁构件呈环状形成于所述盖体的上表面的中央部而成的；

放射状部，其以多个梁构件从所述环状部呈放射状延伸的方式形成，

所述真空腔室呈长方体状，所述盖体的上表面呈矩形形状，所述环状部包括矩形形状的框体，

所述盖体的呈矩形形状的所述上表面包括一对第1边和一对第2边，

所述加强构造体具有与所述盖体的所述矩形形状的上表面的一对第1边平行地设置的两根第1梁构件和与一对第2边平行地设置的两根第2梁构件，所述第1梁构件和所述第2梁构件配置成井字状，所述第1梁构件和所述第2梁构件的中央部构成所述环状部，所述第1梁构件和所述第2梁构件的位于所述中央部的两侧的端部构成所述放射状部的梁构件的一部分，

所述放射状部还具有从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件。

9.根据权利要求8所述的加强构造体，其特征在于，

从所述环状部的角部向所述盖体的上表面的角部延伸的梁构件沿着所述盖体的上表面的对角线方向延伸。

10.根据权利要求8或9所述的加强构造体，其特征在于，

所述第1梁构件和所述第2梁构件以将所述盖体的上表面分割成9部分的方式设置。