[发明专利]加强构造体、真空腔室和等离子体处理装置

说明书

本发明提供一种能够谋求所期望的轻量化的加强构造体、具有那样的加强构造体的真空腔室和等离子体处理装置。一种加强构造体(4)，其为了加强用于对基板实施预定的处理的真空腔室的盖体而设置于盖体的上表面，通过组合多个梁构件而成，其中，加强构造体(4)具有：环状部(44)，其是梁构件(中央部(41a)、中央部(42a))呈环状形成于盖体的上表面(顶壁(3a)的上表面)的中央部而成的；放射状部(45)，其以多个梁构件(端部(41b)、端部(42b)、第3梁构件(43))从环状部(44)呈放射状延伸的方式形成。

技术领域

本发明涉及加强真空腔室的盖体的加强构造体、具有那样的加强构造体的真空腔室和等离子体处理装置。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)所代表的平板显示器(FPD)的制造过程中，对FPD用的玻璃基板进行等离子体蚀刻、溅射、等离子体CVD等等离子体处理。

在进行这样的等离子体处理的等离子体处理装置中，需要真空处理，因此，使用可抽真空的真空腔室作为处理容器。真空腔室包括主体部和盖部，为了确保能经得住其内部与外部之间的压力差的强度，使主体部和盖部成为厚壁而确保了强度。

不过，近来，FPD基板明显大型化，以至于也出现一边超过2m的巨大的FPD基板，在与该巨大的FPD基板相对应的大型的真空腔室中，为了确保能经得住大气压的强度，在仅使真空腔室的壁厚增大了的情况下，需要极大的壁厚，重量变大，并且材料费、加工费巨大。

因此，作为消除这样的问题点的技术，在专利文献1中记载有在真空腔室的上部容器(盖体)的外侧设置有包括梁构造的加强构造体。由此，维持能经得住大气压的充分的强度且谋求轻量化，并且能够减少材料费和加工费。另外，在专利文献2中记载有在真空腔室的顶板部的外侧设置有抑制顶板部的变形的包括拱状的肋的加强构造体。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第5285403号公报

专利文献2：日本特开2015-22806号公报

发明内容

发明要解决的问题

不过，在以往的等离子体处理装置中，设置有对真空腔室的盖体进行开闭的开闭机构，但在与超过2m的大型基板相对应的大型的真空腔室中，虽然利用上述专利文献1、专利文献2所记载的加强构造体确保强度，但加强构造体的重量分别为例如约1.5ton和2.0ton，无法说轻量化充分，开闭机构不得不变得大型化。另外，最近，出于成本削减的观点考虑，尝试不使用开闭机构，而利用设置于使用者的工厂的行车对盖体进行开闭，在上述专利文献1、专利文献2中，加强构造体的重量如此大，因此，也存在盖体的重量成为超过了行车的容许范围的重量而难以适用的情况。

因而，本发明的课题在于提供一种能够谋求所期望的轻量化的加强构造体、具有那样的加强构造体的真空腔室和等离子体处理装置。

用于解决问题的方案

为了解决上述课题，本发明的第1观点在于提供一种加强构造体，其为了加强用于对基板实施预定的处理的真空腔室的盖体而设置于所述盖体的上表面，通过组合多个梁构件而成，其特征在于，该加强构造体具有：环状部，其是梁构件呈环状形成于所述盖体的上表面的中央部而成的；放射状部，其以多个梁构件从所述环状部呈放射状延伸的方式形成。

在上述第1观点的加强构造体中，能够设为，所述真空腔室呈长方体状，所述盖体的上表面呈矩形形状，所述环状部包括矩形形状的框体。