[发明专利]一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法在审
申请号: | 201710434825.8 | 申请日: | 2017-06-10 |
公开(公告)号: | CN107268070A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 倪友保;吴海信;肖瑞春;毛明生;王振友 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | C30B13/00 | 分类号: | C30B13/00;C30B29/10 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人: | 杨学明,顾炜 |
地址: | 230031 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 吸收 磷锗锌 晶体生长 方法 | ||
1.一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法,其特征在于:步骤如下:
①设计并制作合适梯度的三段温区的晶体生长炉,分为低温区,梯度区和高温区,梯度区温度梯度4~7℃/cm可调;
②去离子水清洗并烘干生长的坩埚,坩埚表面镀制炭膜层;
③选取定向好的磷锗锌籽晶放入坩埚一端的籽晶槽中,按比例添加助熔剂ZnF2和Ge,预生长的磷锗锌高纯多晶原料,20~40mm厚无水B2O3依次放入,最后将坩埚整体放置石英管中,室温下抽真空至10-2Pa或10-2Pa以下并密封;
④将所述密封的石英管置入晶体生长炉内,装有籽晶、助熔剂、多晶料的一端置于梯度区与高温区之间,以10~30℃/h的升温速率将高温区升至970~980℃,梯度区950~960℃,低温区930~950℃,恒温80~100h,此时以籽晶与助熔剂接触处为基准,熔解部分多晶料的助熔剂熔化层厚度10mm及以上;
⑤以2~4℃/d的降温速率将高温区最终匀速降至955~960℃,同时低温区930~950℃、梯度区950~960℃温度也在该段时间内匀速降至920~940℃,进行晶体生长;或炉体高温区970~980℃、梯度区950~960℃、低温区930~950℃温度保持不变,以2~3mm/d的炉体下降速度,进行晶体生长;
⑥生长结束后,晶体生长炉以10~50℃/h的速度降至室温;
⑦晶体从坩埚中取出,采用60~80℃蒸馏水、无水乙醇,70~90℃真空干燥箱依次处理后,即得低吸收磷锗锌晶体。
2.根据权利要求1所述的一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法,其特征在于:所述步骤①中晶体生长炉的梯度区温度梯度优选为5℃/cm。
3.根据权利要求1所述的一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法,其特征在于:所述步骤②中生长的坩埚材质为石墨、刚玉或氮化硼。
4.根据权利要求1所述的一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法,其特征在于:所述步骤⑤中晶体降温生长中降温速率优选3℃/d;下降生长炉体下降速度优选3mm/d。
5.根据权利要求1所述的一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法,其特征在于:所述步骤⑥中晶体生长炉以30℃/h的速度降至室温。
6.根据权利要求1所述的一种低吸收磷锗锌晶体生长的方法,其特征在于:所述步骤①中的炭膜层厚度为几十至几百微米厚度,使炭膜层不脱落。
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