[发明专利]半导体装置结构在审
申请号: | 201710438836.3 | 申请日: | 2017-06-12 |
公开(公告)号: | CN107622994A | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 张守仁;普翰屏;黄启铭;潘信瑜;吴凯强;许森贵;万厚德 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/58 | 分类号: | H01L23/58 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 冯志云,王芝艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 结构 | ||
【权利要求书】:
1.一种半导体装置结构,包括︰
一第一装置;
一导电部件,位于该第一装置上方;以及
一导电遮蔽层,位于该第一装置与该导电部件之间,其中该导电遮蔽层具有多个开口穿过其中,且该等开口的最大宽度小于该第一装置所产生的能量的波长。
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