[发明专利]一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法

权利要求书

1.一种曝光机机台，具有用于承载待曝光基板的台架，其特征在于，所述台架具有金属台面，所述曝光机机台包括：用于向所述金属台面发射特定光线的光源、以及用于向所述金属台面释放静电荷的静电发生器；其中，

所述金属台面的表面具有光感涂层；所述光感涂层在感应到所述特定光线后从绝缘状态变为导电状态；

所述金属台面接地；

所述特定光线与所述曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。

2.如权利要求1所述的曝光机机台，其特征在于，所述光源为红外光源；所述光感涂层为红外半导体涂层。

3.如权利要求2所述的曝光机机台，其特征在于，所述红外半导体涂层的材料为硫化铅、碲化铅或硒化铅之一或组合。

4.如权利要求1所述的曝光机机台，其特征在于，所述光源位于所述金属台面的正上方。

5.如权利要求1所述的曝光机机台，其特征在于，所述金属台面通过至少一条导线接地。

6.如权利要求1-5任一项所述的曝光机机台，其特征在于，还包括：贯穿所述金属台面和所述光感涂层的多个规则排列的排气孔。

7.如权利要求6所述的曝光机机台，其特征在于，各所述排气孔的孔径大小相等。

8.如权利要求7所述的曝光机机台，其特征在于，所述排气孔的孔径不大于0.5毫米。

9.一种曝光系统，其特征在于，包括：如权利要求1-8任一项所述的曝光机机台，以及曝光机。

10.一种采用如权利要求9所述的曝光系统进行曝光的方法，其特征在于，包括：

利用静电发生器向金属台面上的光感涂层释放静电荷，所述静电荷与待曝光基板表面携带的静电荷电性相反；

将所述待曝光基板放置于附着有所述静电荷的所述光感涂层之上，以使所述待曝光基板固定于台架上；

在采用曝光机对所述待曝光基板曝光完成后，利用光源向所述金属台面发射特定光线，使所述光感涂层从绝缘状态变为导电状态；

在所述静电荷从所述光感涂层经过所述金属台面导出后，将曝光后的基板脱离所述台架。