[发明专利]一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法

说明书

本发明公开了一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，在光源发出的特定光线的作用下，使得光感涂层在绝缘状态和导电状态之间发生转变，有利于对待曝光基板的固定和分离；同时，通过静电发生器向光感涂层释放静电荷，实现了通过静电吸附的方式固定待曝光基板，且不会出现凸起的分区挡墙；此外，通过将金属台面接地，使得静电荷可以从光感涂层经过金属台面而导出，实现待曝光基板与光感涂层的分离，便于待曝光基板的移开；总之，该曝光机机台既保证了静电的产生和对待曝光基板的吸附，又实现了对已存静电荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因气体负压吸附的方式带来的stage mura，保护了待曝光基板不受破坏，有效提高了待曝光基板的曝光质量。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法。

背景技术

在制作液晶显示面板中的对向基板时，通常将用于制作对向基板的衬底基板固定于曝光机台之上，通过紫外曝光的方式制作对向基板。目前，将衬底基板固定于曝光机台之上的方式一般为气体负压吸附的方式，即利用气体的压力差来固定衬底基板，以防止衬底基板发生偏移，影响曝光的准确性。

然而，在采用气体负压吸附的方式固定衬底基板时，通常需要对衬底基板进行分区吸附，而分区吸附必然会存在凸起的分区挡墙，使得衬底基板在吸附固定后，由于分区挡墙的凸起会使得衬底基板发生弯曲，导致部分区域曝光不均匀，影响局部曝光效果，产生机台纹路不良(stage mura)；具体如图1所示，在曝光机机台1吸附固定衬底基板2之后，因存在分区挡墙(虚线圈内所示)，从而产生了stage mura，如图2所示的曲线和椭圆。而随着液晶产品分辨率的逐步提高，stage mura在实际的液晶产品中不断被检出，严重影响了液晶产品的质量。

目前，通常采用减轻吸附压力的方式来解决stage mura的问题；然而，该方法的作用微乎其微，并没有从根本上解决stage mura的问题；基于此，如何有效避免因固定衬底基板而导致的stage mura，提高液晶产品的质量，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，用以解决如何有效避免因固定衬底基板而导致的stage mura，提高液晶产品的质量。

本发明实施例提供了一种曝光机机台，包括：用于承载待曝光基板的具有金属台面的台架、用于向所述金属台面发射特定光线的光源、以及用于向所述金属台面释放静电荷的静电发生器；其中，

所述金属台面的表面具有光感涂层；所述光感涂层在感应到所述特定光线后从绝缘状态变为导电状态；

所述金属台面接地；

所述特定光线与所述曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述光源为红外光源；所述光感涂层为红外半导体涂层。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述红外半导体涂层的材料为硫化铅、碲化铅或硒化铅之一或组合。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述光源位于所述金属台面的正上方。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述金属台面通过至少一条导线接地。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，还包括：贯穿所述金属台面和所述光感涂层的多个规则排列的排气孔。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，各所述排气孔的孔径大小相等。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述排气孔的孔径不大于0.5毫米。