[发明专利]一种TFT‑LCD屏用复合薄膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及TFT-LCD技术领域，具体涉及一种TFT-LCD屏用复合薄膜及其制备方法。

背景技术

氧化铟锡透明导电膜是一种n型简并半导体，由于其具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和化学稳定性等优点，越来越受到关注，已经在很多领域得到了应用。目前，触摸屏用复合薄膜主要用于两方面，一方面用于柔性显示设备，如柔性触屏、有机电致发光显示器等。另一方面，作为太阳能电池板、太阳能控制膜(车膜、建筑玻璃膜等)的基材。

传统的电阻式触摸屏用复合薄膜的结构一般为HC/PP/HC/SiO2/ITO，其中，HC/PP/HC为复合基材。然而，传统的SiO2和ITO薄膜在复合基材上的附着力较差，因此在该复合薄膜的制造过程中需要对复合基材进行充分脱气处理。此外，传统的电阻式触摸屏用复合薄膜生产工艺对复合基材脱气要求非常严格，复合基材需要在预处理设备中以0.9m/min的走速走三遍，因而一卷500m的基材的预处理时间就需要28小时，转入到主设备后在镀膜前还需要再脱气一遍，生产效率非常低下。

发明内容

本发明旨在提供了一种TFT-LCD屏用复合薄膜及其制备方法。

本发明提供如下技术方案：

一种TFT-LCD屏用复合薄膜，包括依次层叠设置的硬涂层、PP基材、紫外光固化树脂层、二氧化硅层及ITO层。

一种TFT-LCD屏用复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：

(1)对包括硬涂层、PP基材及硬涂层的复合基材进行脱气预处理，将脱气处理后的复合基材置于镀膜设备中，采用脉冲直流电源、硅靶材在氧气氛围中在复合基材一侧的硬涂层表面溅射紫外光固化树脂层，得到复合基材/紫外光固化树脂层；

(2)使用中频电源、硅靶材在氧气氛围中在所述复合基材/紫外光固化树脂层上溅射SiO2层，得到复合基材/紫外光固化树脂层/SiO2复合薄膜；

(3)使用直流电源、ITO靶在复合基材/紫外光固化树脂层/SiO2复合薄膜的SiO2层上溅射ITO层，得到所述TFT-LCD屏用复合薄膜，直流电源的工作功率为4-5KW。

所述步骤(1)中脉冲直流电源的工作功率为4-6KW，氧气流量为25-40sccm。

所述步骤(2)中频电源的工作功率为12KW，氧气的流量为200-450sccm。

所述紫外光固化树脂层包括高官能度聚氨酯丙烯酸树脂、中官能度聚氨酯丙烯酸树脂和有机硅改性丙烯酸酯树脂。

所述紫外光固化树脂层是将高官能度聚氨酯丙烯酸树脂、中官能度聚氨酯丙烯酸树脂和有机硅改性丙烯酸酯树脂在温度12～20℃冷鼓上冷却形成复合铸片，以10～30m/min的速度进入3～5m长、温度65～95℃的纵向拉伸段拉伸3-5倍后，将经纵向拉伸的复合薄坯片以22～46m/min的速度冷却至15～45℃，进行电晕处理，经纵向拉伸和电晕处理的复合薄坯片采用凹版或条缝或气刀在温度100～135℃的预热段除去水分，然后在温度135～155℃的横向拉伸段拉伸2～8倍，热定型段定型1～8min，得到紫外光固化树脂层。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过增加SiOx过渡层来保证SiO2和ITO层在复合基材上的附着力，因而对复合基材脱气的要求大大降低，脱气处理的时间变短，而且镀膜前不再需要脱气处理，大大提高了TFT-LCD屏用复合薄膜的生产效率；通过紫外光固化树脂层制备大大提升了TFT-LCD屏用复合薄膜抗划伤能力强、硬度高，耐磨性能良好。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一种TFT-LCD屏用复合薄膜，包括依次层叠设置的硬涂层、PP基材、紫外光固化树脂层、二氧化硅层及ITO层。

一种TFT-LCD屏用复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：

(1)对包括硬涂层、PP基材及硬涂层的复合基材进行脱气预处理，将脱气处理后的复合基材置于镀膜设备中，采用脉冲直流电源、硅靶材在氧气氛围中在复合基材一侧的硬涂层表面溅射紫外光固化树脂层，得到复合基材/紫外光固化树脂层；

(2)使用中频电源、硅靶材在氧气氛围中在所述复合基材/紫外光固化树脂层上溅射SiO2层，得到复合基材/紫外光固化树脂层/SiO2复合薄膜；