[发明专利]氟化结构化有机膜层

权利要求书

1.一种成像构件，其包含：

基底；

电荷产生层；

电荷传输层；和

包含结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块，其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量％到约20重量％的量存在于所述SOF中。

2.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块和所述空穴分子构建块以所述最外层的SOF的约90重量％到约99.5重量％的量存在于所述SOF中。

3.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述最外层为外涂层，并且所述外涂层为约2微米到约10微米厚。

4.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块选自由以下组成的群组：具有以下通式结构的α,ω-氟烷基二醇：

其中n为具有值为1到约100的整数；所述通式结构的氟化醇HOCH₂(CF₂)_nCH₂OH，其中n为具有值为1到约100的整数；四氟对苯二酚；全氟己二酸水合物，4,4'-(六氟亚异丙基)二邻苯二甲酸酐；和4,4'-(六氟亚异丙基)二苯酚。

5.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块选自由以下组成的群组：1,1,8,8-十二氟-1,8-辛二醇、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟-1,6-己二醇、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟-1,8-辛二醇、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-全氟癸-1,10-二醇、(2,3,5,6-四氟-4-羟甲基-苯基)-甲醇、2,2,3,3-四氟-1,4-丁二醇、2,2,3,3,4,4-六氟-1,5-戊二醛，和2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-十四氟-1,9-壬二醇。

6.一种静电照相设备，其包含：

成像构件，其具有包含结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜(SOF)包含多个氟化分子构建块和多个空穴分子构建块，其中所述氟化分子构建块以所述SOF的约1重量％到约20重量％的量存在于所述SOF中；

赋予所述成像构件静电荷的充电单元；在所述成像构件上产生静电潜像的曝光单元；

在所述成像构件上产生图像的图像材料递送单元；从所述成像构件转印所述图像的转印单元；和

任选的清洁单元。

7.根据权利要求6所述的静电照相设备，其中所述充电单元为偏置电荷辊。

8.一种成像构件，其包含：

基底；

电荷产生层；

电荷传输层；和

包含结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块，其中所述氟化分子构建块以所述SOF的约1重量％到约10重量％的量存在于所述SOF中。

9.根据权利要求8所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块选自由以下组成的群组：1,1,8,8-十二氟-1,8-辛二醇、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟-1,6-己二醇、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟-1,8-辛二醇、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-全氟癸-1,10-二醇、(2,3,5,6-四氟-4-羟甲基-苯基)-甲醇、2,2,3,3-四氟-1,4-丁二醇、2,2,3,3,4,4-六氟-1,5-戊二醛，和2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-十四氟-1,9-壬二醇。

10.根据权利要求8所述的成像构件，其中所述空穴传输构建块选自由以下组成的群组：N4,N4,N4',N4'-四(4-(甲氧基甲基)苯基)联二苯基-4,4'-二胺N,N,N',N'-四-(对甲苯基)联二苯基-4,4'-二胺：和N4,N4'-双(3,4-二甲基苯基)-N4,N4'-二对甲苯基-[1,1'-联二苯基]-4,4'-二胺。