[发明专利]氟化结构化有机膜层在审
申请号: | 201710456049.1 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107561879A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | G·M·麦圭尔;杨素霞;N-X·胡;E·C·萨维奇;R·W·赫德里克 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
主分类号: | G03G5/06 | 分类号: | G03G5/06 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 李丙林,王玉桂 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氟化 结构 有机 | ||
技术领域
本发明涉及用于成像构件的保护外涂层。更具体地说,提供了一种使用用于感光器的外涂层的结构化有机膜。
背景技术
在电子照相术、电子照相成像或静电照相成像中,在导电层上含有光导绝缘层的电子照相的板、鼓、带等的表面(成像构件或感光器)首先均匀地静电充电。成像构件曝光于激活电磁辐射模式,如光。辐射选择性地消散在光导绝缘层的照亮区域上的电荷,同时在未照亮区域上留下静电潜像。此静电潜像接着可通过在光导绝缘层的表面上沉积微细的验电(electroscopic)标记粒子显影以形成可见的图象。所得可见的图象接着可从成像构件直接或间接(如通过转印或其它构件)转印到印刷基底,如透明或纸。成像过程可用可再用的成像构件重复多次。
虽然可用多层带或感光鼓获得极佳的调色剂图像,但是已发现随着更先进更高速的电子照相复印机、复制器和打印机的开发,对打印质量有更高的要求。必须维持带电图像和偏置电位以及调色剂和/或显影剂的特征的微妙平衡。这对感光器制造的质量并且因此对制造成品率施加了附加限制。
成像构件通常曝光于重复的电子照相循环,这使曝光的带电输送层或其替代的顶层经受机械磨损、化学侵蚀和热。此重复循环导致曝光的带电传输层的机械和电特性逐渐降低。在长期使用期间的物理和机械损坏,尤其是表面刮痕缺陷的形成是带感光器的故障的主要原因之一。因此,期望提高感光器的机械鲁棒性,且具体来说以增加其刮擦抗性,由此延长其使用寿命。此外,期望增加对光冲击的抗性使得图像重影、背景底纹等在印刷中最小化。
提供保护外涂层是延长感光器的使用寿命的常规手段。常规地,例如已采用聚合物抗擦伤和裂纹外涂层作为用于延长感光器寿命的鲁棒外涂层设计。然而,常规外涂层调配物在印刷中呈现重影和背景底纹。提高抗光冲击将提供更稳定的成像构件,从而得到改善的打印质量。
尽管已经采用用于形成成像构件的各种方法,但是仍需要改善的成像构件设计,以提供改善的成像性能和较长寿命,降低人类和环境健康风险等。
发明内容
根据实施例,提供了一种成像构件,其包括基底、电荷产生层、电荷传输层;和包含结构化有机膜(SOF)的最外层,所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块(building block)和空穴分子构建块,其中氟化分子构建块以最外层的SOF的约1重量%到约20重量%的量存在于SOF中。
根据另一实施例,提供了一种包括具有最外层的成像构件的静电照相设备。最外层为包括多个氟化分子构建块和多个空穴分子构建块的结构化有机膜(SOF),其中氟化分子构建块以SOF的约1重量%到约20重量%的量存在于SOF中。静电照相装置包括赋予成像构件静电荷的充电单元,在成像构件上产生静电潜像的曝光单元,在成像构件上产生图像的图像材料递送单元和从成像构件转印图像的转印单元。静电照相装置可任选地包括清洁单元。
根据另一实施例,提供了一种包括基底、电荷产生层、电荷传输层和最外层的成像构件。最外层为包括氟化分子构建块和空穴分子构建块的结构化有机膜(SOF),其中所述氟化分子构建块以SOF的约1重量%到约10重量%的量存在于SOF中。
附图说明
并入在本说明书中并且构成本说明书的一部分的附图示出了本教示内容的若干实施例,并且与所述描述一起用以说明本教示内容的原理。
图1表示结合本发明的FSOF的例示性感光器的简化侧视图。
图2表示结合本发明的FSOF的第二例示性感光器的简化侧视图。
图3表示结合本发明的FSOF的第三例示性感光器的简化侧视图。
应注意,已经简化并且绘制图的一些细节以有助于了解实施例而不是维持严格的结构精确性、细节和比例。
具体实施方式
现将详细参考本教示内容的实施例,其中所述实例在附图中图示出。只要可能,将在各图中使用相同的参考标号来指代相同或相似部分。
在以下描述中,参考形成描述的一部分的附图,并且其中借助于其中可实践本教示内容的说明具体例示性实施例示出。足够详细地描述这些实施例以使本领域的技术人员能够实践本教示内容,且应了解可采用其它实施例并且可在不脱离本教示内容的范围的情况下作出改变。因此,以下描述仅为说明性的。
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