[发明专利]半导体封装件的制造方法有效
申请号: | 201710456829.6 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107527825B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 町田纮一;北野一彦 | 申请(专利权)人: | 安靠科技日本公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60 |
代理公司: | 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 | 代理人: | 林柳岑 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 制造 方法 | ||
本发明提供高成品率的半导体封装件的制造方法。半导体封装件的制造方法包括如下步骤:对包含至少一种金属且具有第一面和与所述第一面对置的第二面的基材的所述第一面及位于所述第一面与所述第二面之间的侧面部进行蚀刻,且在所述第一面及所述侧面部附着与所述金属不同的其他金属;在所述基材的所述第二面配置包括外部端子的半导体装置,使得所述外部端子不与所述第二面对置;形成用于覆盖所述半导体装置的树脂绝缘层;在所述树脂绝缘层上形成第一导电层;在所述第一导电层和所述树脂绝缘层形成用于使所述半导体装置的所述外部端子露出的开口部;以及在所述基材的所述第一面和侧面部、所述第一导电层上及所述开口部内形成镀层。
技术领域
本发明涉及半导体封装件的制造方法。尤其是,本发明涉及在基材上的半导体装置的封装技术。
背景技术
以往,在移动电话或智能电话等的电子设备中采用在支承基板上搭载有集成电路(IC)芯片等半导体装置的半导体封装件结构(例如日本特开2010-278334号公报)。在这种半导体封装件中,通常采用如下结构:在支承基材上经由粘接层接合IC芯片或存储器等的半导体装置,并利用密封体(密封用树脂材料)覆盖该半导体装置,由此来保护半导体器件。
作为用于半导体装置的支承基材,采用印刷基材、陶瓷基材等各种基材。尤其是近年来,对于使用金属基材的半导体封装件的开发研究不断推进。在金属基材上搭载有半导体装置并通过再布线来扇出(fan-out)的半导体封装件具有电磁屏蔽性能、热性能优良的优点,作为高可靠性的半导体封装件而备受瞩目。这种半导体封装件还具有封装设计的自由度高的优点。
在支承基材上搭载半导体装置的结构的情况下,通过在大型支承基材上搭载多个半导体装置,能够利用同一工序来制造多个半导体封装件。在这种情况下,形成在支承基材上的多个半导体封装件,在制造过程结束之后被单片化,从而完成各个半导体封装件。像这种在支承基材上搭载有半导体装置的半导体封装件的结构具有生产率高的优点。
发明内容
如上所述,在考虑到使用大型金属基材为支承基材的量产方法的情况下,需要满足如下条件:对该金属基材配置半导体装置时的高对准精度、半导体装置与布线之间的良好的接触、或成品率高的半导体封装件的单片化等。
本发明是鉴于这些问题而提出的,其目的在于提供高成品率的半导体封装件的制造方法。
本发明的一个实施方式的半导体封装件的制造方法包括如下步骤:对包含至少一种金属且具有第一面和与所述第一面对置的第二面的基材的所述第一面及位于所述第一面与所述第二面之间的侧面部进行蚀刻,且在所述第一面及所述侧面部附着与所述金属不同的其他金属;在所述基材的所述第二面配置包括外部端子的半导体装置,使得所述外部端子不与所述第二面对置;形成用于覆盖所述半导体装置的树脂绝缘层;在所述树脂绝缘层上形成第一导电层;在所述第一导电层和所述树脂绝缘层形成用于使所述半导体装置的所述外部端子露出的开口部;以及在所述基材的所述第一面和侧面部、所述第一导电层上及所述开口部内形成镀层。
所述基材可以为不锈钢基材。
所述蚀刻可以为使用包含所述其他金属的离子的蚀刻液的湿法蚀刻。
所述其他金属的离子化倾向可以小于所述基材所包含的至少一种金属的离子化倾向。
可以利用无电解镀敷法来形成所述镀层。
所述镀层可以包含与所述其他金属相同的金属。
还可以包括使所述镀层生长来形成第二导电层的步骤。
根据本发明的半导体封装件的制造方法,能够提供高成品率的半导体封装件的制造方法。
附图说明
图1为本发明的一个实施方式的半导体封装件的剖面示意图。
图2为示出在本发明的一个实施方式的半导体封装件的制造方法中,在支承基材形成对准标记的工序的图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造