[发明专利]显示装置及其制备方法有效
| 申请号： | 201710480181.6 | 申请日： | 2017-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN107331762B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 邢汝博;杨小龙;单奇;林立;蔡世星 | 申请（专利权）人： | 维信诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/56 | 分类号： | H01L33/56;H01L27/15 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 张建纲 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示装置 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示装置的制备方法，包括以下步骤：
在衬底上形成发光二极管像素阵列；
在所述衬底上形成包覆所述发光二极管像素阵列的第一柔性聚合物层；
剥离所述衬底；其中，形成所述第一柔性聚合物层的步骤包括：
在所述发光二极管像素阵列上浇筑聚合物的预聚体或者聚合物的溶液；
所述预聚体聚合或者聚合物溶液干燥后，形成柔性聚合物层。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，第一柔性聚合物层厚度为0.01毫米-1.00毫米。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括在所述发光二极管像素阵列中形成第二柔性聚合物层的步骤，所述第二柔性聚合物层填充在所述发光二极管像素阵列的各发光二极管之间。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，还包括在所述发光二极管像素阵列远离所述第一柔性聚合物层的一侧设置第三柔性聚合物层的步骤。
5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述衬底为刚性衬底。
6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述衬底的厚度为0.1毫米-1.1毫米。
7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述衬底通过激光剥离工艺剥离。
8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述第一柔性聚合物层，所述第二柔性聚合物层以及所述第三柔性聚合物层的聚合物分别独立选自聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯中的至少一种。
9.一种显示装置，其特征在于，包括第三柔性聚合物层，直接形成在所述第三柔性聚合物层上的发光二极管像素阵列；直接形成在所述第三柔性聚合物层上，并包覆所述发光二极管像素阵列的第一柔性聚合物层；以及填充在所述发光二极管像素阵列中的第二柔性聚合物层；
其中，形成所述第一柔性聚合物层的步骤包括：
在所述发光二极管像素阵列上浇筑聚合物的预聚体或者聚合物的溶液；
所述预聚体聚合或者聚合物溶液干燥后，形成柔性聚合物层。
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