[发明专利]显示装置及其制备方法

说明书

本发明涉及显示技术领域，提供一种显示装置及其制备方法，其中制备方法包括以下步骤：首先，在衬底上形成发光二极管像素阵列；其次，在所述衬底上形成覆盖所述像素阵列的第一柔性聚合物层；再次，剥离所述衬底。通过在衬底上直接形成覆盖像素阵列的第一柔性聚合物层，在实现该显示装置的柔性的同时，简化了工艺步骤，提高了工艺良率，节约成本，易于工业化使用。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示装置及其制备方法。

背景技术

Micro-LED显示技术能够提供较高的对比度与刷新速度，以及广视角。相较于OLED显示技术，Micro-LED色域更广、亮度更高，具有更低功耗和更长的寿命。因此，Micro-LED显示技术具有广阔的发展空间。此外，Micro-LED易于整合传感器与电路，可打造具有指纹识别和手势控制等嵌入传感能力的薄型显示器。预计在增强现实与混合现实(AR/MR)的显示器应用领域有巨大的应用潜力。

现有Micro-LED显示装置通常采用如下方法制备：首先在原始衬底上形成微发光二极管阵列；再将微发光二极管阵列从衬底上剥离，并用专用的转移印章将其转移到接收衬底上；然后，在接收衬底上填充柔性聚合物并进行封装；最后，采用ITO沉积制备该微发光二极管阵列器件的电极。

上述技术方案工艺复杂，特别是微发光二极管阵列进行转移步骤。以智能手表的显示面板计，需要转移的发光二极管多达上百万个。要实现这些二极管与驱动背板的可靠电学连接，工艺难度极高，导致产品良率低，生产成本高。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的显示装置加工工艺复杂，良品率低的缺陷。

鉴于此，本发明提供一种显示装置的制备方法，包括以下步骤：

在衬底上形成发光二极管像素阵列；

在所述衬底上形成覆盖所述发光二极管像素阵列的第一柔性聚合物层；

剥离所述衬底。

可选地，形成所述第一柔性聚合物层的步骤包括：在所述发光二极管像素阵列上浇筑聚合物预聚体或者聚合物的溶液；

所述聚合物的预聚体聚合或者聚合物溶液干燥后，形成柔性聚合物层。

可选地，第一柔性聚合物层厚度为0.01毫米-1.0毫米。

可选地，还包括在所述发光二极管像素阵列中形成第二柔性聚合物层的步骤,所述第二柔性聚合物层填充在所述发光二极管像素阵列的各发光二极管之间。

可选地，还包括在所述发光二极管像素阵列远离所述第一柔性聚合物层的一侧设置第三柔性聚合物层的步骤。

可选地，所述衬底为刚性衬底。

可选地，所述衬底的厚度为0.1毫米-1.1毫米。

可选地，所述衬底通过激光剥离工艺剥离。

可选地，所述第一柔性聚合物层，所述第二柔性聚合物层以及所述第三柔性聚合物层的聚合物可分别独立选自聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯中的至少一种。

本发明还提供一种显示装置，包括第三柔性聚合物层，直接形成在所述第三柔性聚合物层上的发光二极管像素阵列；直接形成在所述第三柔性聚合物层上，并覆盖所述发光二极管像素阵列的第一柔性聚合物层；以及填充在所述发光二极管像素阵列中的第二柔性聚合物层。

本发明技术方案，具有如下优点：