[发明专利]一种大深槽双面铝基板的制作方法在审
申请号: | 201710484961.8 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN107205319A | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 黄明安;刘天明 | 申请(专利权)人: | 四会富士电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/02;H05K3/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 526236 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大深槽 双面 铝基板 制作方法 | ||
1.一种大深槽双面铝基板的制作流程,其特征包括以下步骤:
A、 开铝料,铝料表面拉丝;
B、 铝料烘烤;
C、铝料钻大孔和深槽;
D、使用PP压合填充大深槽,剥离PP;
E、铝面进行特殊氧化处理,压合PP和铜箔;
F、钻靶位孔铣边;
G、钻孔和正常的沉铜电镀等双面板流程。
2.根据权利要求1所述的制作流程,其特征在于步骤A:铝料由原材料加工商进行拉丝处理,或者开料后采用砂带研磨机研磨。
3.根据权利要求1所述的制作流程,其特征在于步骤B:铝料进行烘烤的目的是对铝表面在空气中进行氧化,产生一层疏松的氧化层,便于剥离填胶的PP片。
4.根据权利要求1所述的制作流程,其特征在于步骤C:钻大孔和大深槽,为避免大孔和大深槽之间产生毛刺,钻完一面之后需要反面钻交界处的孔;板边的定位孔打上铜铆钉。
5.根据权利要求1所述的制作流程,其特征在于步骤D:使用足够的数量和高含胶量的PP真空层压填充大深槽,采用普通层压参数,因为铝料表面有一层疏松的氧化层,可以手动剥离PP,大深槽中留下了没有气泡的树脂。
6.根据权利要求1所述的制作流程,其特征在于步骤E:剥离掉PP后,铝料表面被清洁干净,再进行铝面的特殊氧化,氧化可以是进行阳极氧化或者化学氧化,再进行正常层压,PP与铝料结合力会比较好。
7.根据权利要求1所述的制作流程,其特征在于步骤F:用X-RAY打靶机识别步骤C中的靶位孔,用来做钻孔的定位孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四会富士电子科技有限公司,未经四会富士电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710484961.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电源控制用半导体装置
- 下一篇:具有稳定性补偿的功率转换器控制器