[发明专利]一种大深槽双面铝基板的制作方法在审
申请号: | 201710484961.8 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN107205319A | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 黄明安;刘天明 | 申请(专利权)人: | 四会富士电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/02;H05K3/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 526236 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大深槽 双面 铝基板 制作方法 | ||
技术领域
本发明属于铝基线路板制作技术领域,具体涉及的是一种大深槽双面铝基板的制作方法。
背景技术
跟随着世界的发展和技术的进步,电子产品向个性化、多功能、化高可靠性、轻、薄、小己成为必然趋势,铝基覆铜板的需求顺应此趋势而诞生,铝基覆铜板具备优异的导热性能,易机械加工性,尺寸稳定性及电气电子性能,在混合集成电路、汽车、办公自动化、大功率电气设备、电源设备、LED照明等领域得到了广泛应用。
双面铝基板的使用也越来越广泛,特别是大深槽的双面铝基板,在导热和小型化方面有不可替代的作用。
目前双面铝基板制作一般采用以下工艺流程:开铝料→钻大孔→铝板塞孔→磨除树脂→铝板氧化→压合→钻靶位孔铣边→钻孔和正常的沉铜电镀等双面板流程。
这个制作流程制作的大深槽双面铝基板存在两个问题:出现最多且最严重的问题是大深槽孔的树脂塞孔空洞,还有一个就是PP与铝基结合力不足,在水煮后浸锡测试会发生爆板分层。
另外这种工艺流程要进行树脂塞孔和研磨,一般的线路板厂没有这些特殊的加工设备。
开发出一种简单易行成本低、可以填充大深槽、可以耐受住水煮之后浸锡不产生爆板分层的双面铝基板制作方法,是线路板行业所需要的工艺技术。
发明内容
为实现大深槽双面铝基板的制作,本发明采用以下步骤实现:
A、 开铝料,铝料表面拉丝;
B、 铝料烘烤;
C、铝料钻大孔和深槽;
D、使用PP压合填充大深槽,剥离PP;
E、铝面进行特殊氧化处理,压合PP和铜箔;
F、钻靶位孔铣边;
G、钻孔和正常的沉铜电镀等双面板流程;
步骤A说明:铝料有原材料加工商进行拉丝处理,或者开料后采用砂带研磨机研磨。
步骤B说明:铝料进行烘烤的目的是对铝表面在空气中进行氧化,产生一层疏松的氧化层,便于剥离填胶的PP片。
步骤C说明:钻大孔和大深槽,为避免大孔和大深槽之间产生毛刺,钻完一面之后需要反面钻交界处的孔;板边的定位孔打上铜铆钉。
步骤D说明:使用足够的数量和高含胶量的PP真空层压填充大深槽,采用普通层压参数,因为铝料表面有一层疏松的氧化层,可以手动剥离PP,大深槽中留下了树脂。
步骤E说明:剥离掉PP后,铝料表面被清洁干净,再进行铝面的特殊氧化,一般是进行阳极氧化或者化学氧化,再进行正常层压,PP与铝料结合力会比较好。
步骤F说明:用X-RAY打靶机识别步骤C中的靶位孔,用来做钻孔的定位孔。
附图说明:
图1为本发明的大孔和深槽示意图。
具体实施方式:
为阐述本发明的具体实施方法,下面结合附图对本发明做进一步的详细说明:
A、开铝料,铝料厚度为1.0mm,铝料尺寸为508mm*403mm,铝料表面经过400#砂带进行研磨。
B、铝料烘烤温度为150℃,时间2小时,采用普通烤箱,让铝表面在空气中氧化。
C、钻大孔的孔径为2mm,槽宽2mm,槽长度50mm,跟槽连接的大孔需从背面再钻一次,板边的靶位孔用打上铜铆钉,以便后面用X-RAY识别。
D、每面使用三张2116PP片,每块板须使用6张PP片,每张的厚度0.12mm,含胶量为54%,PP片的外侧放离型膜,采用正常的层压程序进行层压,层压后浸入270摄氏度的锡槽中让PP与铝料分离,然后手动剥离PP片。
E、对铝面采用特殊化学氧化,药水为100%美格AR-1210常温浸泡3分钟,然后采用10%硝酸浸泡30秒中后水洗干净,吹干后层压,每面使用2张2116PP片,PP片外侧放18um的铜箔进行层压。
F、使用X-RAY打靶机识别出步骤C设置的铜铆钉,打出靶位孔并铣掉余边。
G、采用正常的钻孔、沉铜和电镀流程,完成后面的制作。
采用本方法制作的大深槽铝基板,可以经受住以下测试:
沸水蒸煮一小时→流水冲洗半小时→浸锡260℃20秒
不产生填充树脂的气泡,也不发生分层起泡。
本发明采用两次压合的方法,第一次压合的目的是对大深槽进行填胶,第二次压合的目的是形成所需要的结构。
本方法没有丝网印刷填充树脂产生的气泡,也不会有研磨树脂的高难度高强度作业的制作过程。
本方法制作流程简单,成本低。
以上所述仅以实施例来进一步说明本发明的技术内容,以便于读者更容易理解,但不代表本发明的实施方式仅限于此,任何依本发明所做的技术延伸或者再创造,均受本发明的保护。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四会富士电子科技有限公司,未经四会富士电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710484961.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电源控制用半导体装置
- 下一篇:具有稳定性补偿的功率转换器控制器