[发明专利]一种离子注入机束流均匀性调节装置

说明书

本发明公开了一种离子注入机束流均匀性调节装置。该装置主要包括：支撑杆(1),丝杠(2),多磁极侧板(3),滑块(4),铁芯左(5),顶板(6),限位挡块(7),固定板(8),铁芯右(9)，电机(10)，电位计(11)，调整垫片(12)，电机支架(13)，联轴器(14)，电位计支架(15)。整个装置有两部分，图1为运动执行部分，图2为驱动部分。电机(10)带动联轴器(14)，从而使丝杠(2)运动，带动铁芯左(5)或铁芯右(9)运动，滑块(4)起导向作用，限位挡块(7)在运动的过程中会碰到多磁极侧板(3)的边缘发挥限位作用。磁级左(5)或磁级右(9)的运动会带动支撑杆(1)，从而使电位计(11)运动。本发明涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。

技术领域

本发明涉及一种半导体器件制造控制系统，尤其涉及离子注入机均匀性调节装置，该装置是低能大束流离子注入装备中的关键装置之一。

背景技术

随着半导体工艺的发展，且随着特质线宽的缩小，工艺复杂程度的提高，束流的均匀性和稳定性对于离子注入系统愈发重要，已成为器件成败与否的重要关键。在低能宽带离子注入机引出束流能量很低、束流很大时，由于空间电荷效应的影响，离子束发散严重，导致束流水平均匀性调节更加困难，因此如何设计恰当离子光学系统及均匀性调节装置；以保证离子束流均匀性和稳定性是宽束离子注入机设备成功的关键。时至今日，国内使用的半导体离子注入机依然依赖进口，还没有实现国产化。

发明内容

1.本发明公开了一种离子注入机束流均匀性调节装置。该装置主要包括：支撑杆(1),丝杠(2),多磁极侧板(3),滑块(4),铁芯左(5),顶板(6),限位挡块(7),固定板(8),铁芯右(9)，电机(10)，电位计(11)，调整垫片(12)，电机支架(13)，联轴器(14)，电位计支架(15)。

2.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是整个装置分为两部分，驱动部分和执行部分，每个部分组合才能称为为完整的多磁级装置。

3.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是丝杠(2)带动铁芯左(5)或铁芯右(9)运动，并通过滑块(4)和限位挡块(7)起导向和限位作用。

4.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是每一个铁芯左(5)或铁芯右(9)都能在电机的拖动下独立运动，互不干涉。

5.根据权利要求1的离子注入机均匀性调节装置，其特征是铁芯左(5) 或铁芯右(9)运动都能使支撑杆(1)带动电位计(11)运动，从而采集到铁芯的位置信息。

本发明具有如下显著优点：

1.功能明确，针对性强。

2.结构简单，上下对称布置，易于加工制造。

3.易于控制，上下对称布置12对电极，分别由12个电源供电。

附图说明

图1是本发明的执行部分示意图。

图2是本发明的驱动部分示意图。

图3是本发明的装配效果示意图。

1-支撑杆,2-丝杠,3-多磁极侧板,4-滑块,5-铁芯左,6-顶板,7-限位挡块, 8-固定板,9-铁芯右，10-电机，11-电位计，12-调整垫片，13-电机支架，14- 联轴器，15-电位计支架，16-平行透镜，17-多磁级装置。

具体实施方式