[发明专利]一种瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法

权利要求书

1.一种瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)向下式化合物I的有机溶剂中滴加稀盐酸进行脱保护反应得到下式化合物II，然后采用二氧化锰对化合物II进行氧化，得到下式化合物III；该步骤的有机溶剂为乙腈；

(2)向化合物III的有机溶剂中加入硼氢化钠进行还原反应，得到(3R,5S)和(3R,5R)的内消旋化合物IV；该步骤的有机溶剂为无水甲醇；

(3)向化合物IV的乙腈或乙醇溶液中加入氢氧化钠溶液于0～15℃下进行水解反应2～3小时，完毕后加入萃取液乙酸乙酯萃取分层，所得水层为(3R,5S)构型化合物VI，弃去，所述有机层为(3R,5R)构型化合物V，备用；

(4)向化合物V的乙腈或乙醇溶液中加入氢氧化钠溶液进行于40～55℃下二次水解反应6～7小时，完毕后加入钙源成盐即得到下式目标产物，即瑞舒伐他汀钙(3R,5R)手性异构体杂质，

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2.根据权利要求1所述的瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于：步骤(1)中稀盐酸浓度为0.03～0.07M，盐酸用量为0.05～0.5mol％。

3.根据权利要求1所述的瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于：步骤(1)中脱保护反应温度为30～45℃，反应时间为1～4小时。

4.根据权利要求1所述的瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于：步骤(1)中二氧化锰与化合物I的摩尔比为20～22:1，氧化发反应的温度为30～40℃。

5.根据权利要求1所述的瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于：步骤(2)中所述硼氢化钠的加入环境为-5～0℃，还原反应的温度为15～30℃。

6.根据权利要求1所述的瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于：步骤(3)中在水解完毕后先将反应液调节pH至8～9再加入萃取液进行萃取。

7.根据权利要求1所述的瑞舒伐他汀钙手性异构体杂质的合成方法，其特征在于：步骤(4)中所述的钙源为氯化钙或乙酸钙。