[发明专利]一种半色调掩膜板有效

专利信息
申请号: 201710496938.0 申请日: 2017-06-23
公开(公告)号: CN107145034B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 陈中明 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/32 分类号: G03F1/32;G02F1/13
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 色调 掩膜板
【权利要求书】:

1.一种半色调掩膜板,其特征在于,包括开口区和遮光区,所述开口区包括多个部分透光的第一开口和多个全透光的第二开口;部分所述第一开口与曝光机镜组拼接部位相对应,另一部分所述第一开口与所述曝光机镜组非拼接部位相对应,多个所述第一开口的口径不完全相同,且多个所述第一开口的透光率也不完全相同,以使所述镜组拼接部位和所述镜组非拼接部位相对应的各所述第一开口曝光的图形的尺寸大小相等,所述第一开口曝光的图形为辅柱状隔垫物,所述第二开口曝光的图形为主柱状隔垫物。

2.根据权利要求1所述的半色调掩膜板,其特征在于,位于所述半色调掩膜板上与曝光机镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的口径相同,位于所述半色调掩膜板上与所述曝光机所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的透光率相同。

3.根据权利要求2所述的半色调掩膜板,其特征在于,位于所述半色调掩膜板上与所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的口径大于位于所述半色调掩膜板上其余所述第一开口的口径,且位于所述半色调掩膜板上与所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的透光率大于位于所述半色调掩膜板上其余所述第一开口的透光率。

4.根据权利要求3所述的半色调掩膜板,其特征在于,位于所述半色调掩膜板上与所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的口径比位于半色调掩膜板上其余所述第一开口的口径大0.5微米,且位于所述半色调掩膜板上与所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的透光率比位于所述半色调掩膜板上其余所述第一开口的透光率大2%。

5.根据权利要求2所述的半色调掩膜板,其特征在于,位于所述半色调掩膜板上与所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的口径为6~10微米,位于所述半色调掩膜板上与所述镜组拼接部位相对应的各所述第一开口的透光率为15~25%。

6.根据权利要求1所述的半色调掩膜板,其特征在于,多个所述第一开口和多个所述第二开口分别呈间隔布置;各所述第一开口的口径均大于各所述第二开口的口径。

7.根据权利要求1所述的半色调掩膜板,其特征在于,在各所述第一开口上均镀设有用于降低透光率的铬膜。

8.根据权利要求1所述的半色调掩膜板,其特征在于,各所述第一开口和各所述第二开口的截面均为正八边形。

9.根据权利要求2所述的半色调掩膜板,其特征在于,所述半色调掩膜板与所述镜组拼接部位之间的距离为120mm。

10.根据权利要求1所述的半色调掩膜板,其特征在于,所述半色调掩膜板采用石英制成,所述半色调掩膜板的厚度为5~20毫米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710496938.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top