[发明专利]一种陶瓷电阻压帽下料装置

权利要求书

1.一种陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，包括，

电阻棒下料装置，其包括一电阻棒料仓、一设置于所述电阻棒料仓下方的电阻棒下料台、一驱动所述电阻棒下料台转动的第一驱动机构和一与所述电阻棒下料台相连的电阻棒下料管道，所述电阻棒下料台包括一底板和一侧边，所述底板上在其与所述侧板相连处沿周向设置有环形槽，所述电阻棒下料管道连接所述环形槽，所述侧板上在所述底板与所述电阻棒下料管道连接处上方设置有多个阻隔板；

帽盖下料装置，其包括分别设置于所述电阻棒下料装置两侧的左帽盖下料装置和右帽盖下料装置，所述左帽盖下料装置和所述右帽盖下料装置结构相同，所述左帽盖下料装置包括一帽盖料仓、一设置于所述帽盖料仓下方的帽盖下料台、一驱动所述帽盖下料台振动的第二驱动机构和一与所述帽盖下料台连接的帽盖下料传输通道，所述帽盖下料台底部设置有多个倾斜支架，多个所述倾斜支架连接所述第二驱动机构，所述帽盖下料台内底面边沿沿周向设置有螺旋上升台，所述帽盖下料传输通道连接所述螺旋上升台末端。

2.如权利要求1所述的陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，所述环形槽的宽度大于电阻棒的直径，且小于两倍的电阻棒直径。

3.如权利要求1所述的陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，所述组隔板呈三角形。

4.如权利要求1所述的陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，所述电阻棒下料台内还设置有一红外线检测装置，所述红外线检测装置包括一固定于所述侧边上的支架、一以所述支架为支点的检测杆和一配合所述检测杆设置于所述第一支架上的红外线传感器。

5.如权利要求1所述的陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，所述帽盖下料台内侧边设置有帽盖高度限块，所述帽盖高度限块离所述帽盖下料台底部的距离大于帽盖的高度，且小于两倍的帽盖高度。

6.如权利要求1所述的陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，所述帽盖下料台内侧边上在所述帽盖下料传输通道与所述螺旋上升台相连处上方设置有帽盖宽度限块，所述帽盖宽度限块底部远离所述帽盖下料台侧边的一侧向下延伸有一挡片，所述挡片与所述帽盖下料台侧边形成一帽盖通道，所述帽盖通道的宽度大于帽盖的直径，且小于两倍的帽盖直径。

7.如权利要求1所述的陶瓷电阻压帽下料装置，其特征在于，所述帽盖下料台上在其与所述帽盖料仓连接处的一侧向上凸出有一挡块。